| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-17页 |
| ·气体传感器的研究目的和意义 | 第9-10页 |
| ·气体传感器的工作原理及性能评价指标 | 第10-11页 |
| ·金属氧化物气体传感器的研究现状和发展趋势 | 第11-14页 |
| ·纳米SnO_2 气敏膜的制备方法 | 第14-16页 |
| ·本论文所作的工作 | 第16-17页 |
| 2 水热法制备In_2O_3 掺杂SnO_2 基厚膜气体传感 | 第17-37页 |
| ·水热法概述 | 第17-18页 |
| ·纳米 In_2O_3 掺杂SnO_2 厚膜的制备表 | 第18-27页 |
| ·气敏厚膜的气敏性能测试 | 第27-28页 |
| ·厚膜元件的气敏特性研究 | 第28-32页 |
| ·甲烷气敏厚膜的制备及性能研究 | 第32-35页 |
| ·本章小结 | 第35-37页 |
| 3 气溶胶辅助化学气相沉积技术制备SnO_2 气敏薄膜研究 | 第37-54页 |
| ·AACVD 技术概述 | 第37-41页 |
| ·实验方案的设计及实验过程 | 第41-44页 |
| ·工艺参数对气体传感器性能的影响 | 第44-50页 |
| ·AACVD 生长SnO_2 薄膜机理探讨 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 4 AACVD 方法制备掺杂SnO_2 气敏薄膜 | 第54-68页 |
| ·SnO_2 的掺杂依据 | 第54-55页 |
| ·掺杂气敏薄膜的制备及表征 | 第55-57页 |
| ·掺杂过程对薄膜气敏性能的影响 | 第57-61页 |
| ·薄膜的气敏性能 | 第61-64页 |
| ·薄膜气敏机理的分析 | 第64-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 5 总结与展望 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-75页 |
