| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 目录 | 第10-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-40页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·氧化钒的结构与特性简介 | 第12-19页 |
| ·二氧化钒的晶体结构学和性质 | 第14-17页 |
| ·五氧化二钒的晶体结构学和性质 | 第17-19页 |
| ·氧化钒薄膜的制备 | 第19-29页 |
| ·氧化钒薄膜的制备方式 | 第19-25页 |
| ·国内外氧化钒薄膜的磁控溅射制备研究 | 第25-29页 |
| ·氧化钒薄膜的热阻机制 | 第29-31页 |
| ·氧化钒薄膜的热阻机理和模型 | 第29-30页 |
| ·氧化钒薄膜电阻温度系数计算 | 第30-31页 |
| ·氧化钒薄膜非制冷红外探测器介绍 | 第31-36页 |
| ·红外成像仪的发展 | 第31-33页 |
| ·非制冷红外焦平面器件概述 | 第33页 |
| ·国外及国内非制冷红外焦平面器件的发展概况 | 第33-36页 |
| ·课题的研究背景与方向 | 第36-40页 |
| ·氧化钒薄膜的制备、微结构与电特性之间的关系 | 第36页 |
| ·课题的研究背景与目标 | 第36-37页 |
| ·本论文的制备方法的选择与研究重点 | 第37-40页 |
| 第二章 实验原理与实验步骤 | 第40-56页 |
| ·实验原理 | 第40-43页 |
| ·实验步骤 | 第43-56页 |
| ·基片的选择与清洗 | 第43-44页 |
| ·薄膜的沉积与靶材的预溅 | 第44-46页 |
| ·薄膜的化学结构表征 | 第46-52页 |
| ·薄膜的光学、电学特性表征 | 第52-56页 |
| 第三章 氧化钒薄膜的微观结构研究 | 第56-73页 |
| ·薄膜的成份及价态分析 | 第56-61页 |
| ·薄膜的晶态分析 | 第61-63页 |
| ·薄膜的形貌分析 | 第63-65页 |
| ·氧化钒薄膜的微观结构对薄膜相变和方阻的影响分析 | 第65-71页 |
| ·本章小结 | 第71-73页 |
| 第四章 氧化钒薄膜的磁控溅射制备及性能优化研究 | 第73-112页 |
| ·磁控溅射制备氧化钒薄膜中溅射气氛的研究 | 第73-85页 |
| ·工作气体流量对薄膜沉积速率和溅射电压的影响 | 第74-78页 |
| ·反应气体流量对薄膜沉积速率和溅射电压的影响 | 第78-81页 |
| ·氩氧流量比对薄膜溅射电压的影响 | 第81-85页 |
| ·氧化钒薄膜的生长控制方法研究 | 第85-92页 |
| ·溅射电压控制法 | 第85-86页 |
| ·电压调控法制备氧化钒薄膜 | 第86-92页 |
| ·磁控溅射制备氧化钒薄膜中衬底的影响分析 | 第92-110页 |
| ·氧化钒薄膜在硅衬底上的生长研究 | 第93-100页 |
| ·氧化钒薄膜在玻璃衬底上的生长研究 | 第100-106页 |
| ·氧化钒薄膜在覆盖有氮化硅薄膜的硅衬底上的生长研究 | 第106-110页 |
| ·本章小结 | 第110-112页 |
| 第五章 氧化钒薄膜的光学、电学特性研究 | 第112-127页 |
| ·氧化钒薄膜的光学特性研究 | 第112-119页 |
| ·薄膜光学特性分析的模型建立 | 第113-116页 |
| ·不同厚度薄膜的光学特性分析 | 第116-119页 |
| ·二氧化钒薄膜的电学特性研究 | 第119-125页 |
| ·VO_2薄膜的电学特性分析 | 第120-123页 |
| ·薄膜的均匀性分析 | 第123-125页 |
| ·本章小结 | 第125-127页 |
| 第六章 直流磁控溅射法制备氧化钒薄膜的其它工艺途径探索 | 第127-141页 |
| ·直流磁控溅射五氧化二钒靶生长氧化钒薄膜 | 第127-135页 |
| ·实验 | 第128-129页 |
| ·结果及讨论 | 第129-135页 |
| ·钒膜氧化法制备氧化钒薄膜 | 第135-139页 |
| ·实验 | 第135-136页 |
| ·结果及讨论 | 第136-139页 |
| ·本章小结 | 第139-141页 |
| 第七章 结论与展望 | 第141-146页 |
| ·论文的主要工作总结 | 第141-144页 |
| ·本论文的重要成果 | 第144页 |
| ·展望 | 第144-146页 |
| 致谢 | 第146-147页 |
| 参考文献 | 第147-160页 |
| 作者简介 | 第160-161页 |
| 在读博士期间的研究成果 | 第161-162页 |