PST陶瓷及薄膜材料研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| ·研究背景 | 第9-10页 |
| ·研究现状 | 第10-13页 |
| ·微波可调铁电材料研究现状 | 第10-12页 |
| ·PST材料研究现状 | 第12-13页 |
| ·本论文的研究内容 | 第13-15页 |
| 第二章 PST材料概述 | 第15-23页 |
| ·引言 | 第15页 |
| ·PST的结构 | 第15页 |
| ·PST非线性原理及应用要求 | 第15-18页 |
| ·非线性原理 | 第15-17页 |
| ·微波可调材料的应用要求 | 第17-18页 |
| ·PST薄膜的制备及应用 | 第18-23页 |
| ·PST薄膜的制备工艺 | 第18-21页 |
| ·PST薄膜的应用 | 第21-23页 |
| 第三章 PSI陶瓷及靶材研究 | 第23-50页 |
| ·实验过程 | 第23-28页 |
| ·前言 | 第23-24页 |
| ·PST陶瓷样品的制备 | 第24-27页 |
| ·材料结构和性能测试 | 第27-28页 |
| ·PST陶瓷材料研究 | 第28-43页 |
| ·预烧温度研究 | 第28-29页 |
| ·收缩率研究 | 第29-30页 |
| ·晶体结构研究 | 第30-33页 |
| ·微观形貌研究 | 第33-35页 |
| ·介电性能研究 | 第35-43页 |
| ·PST靶材研究 | 第43-48页 |
| ·PST靶材中Pb过量的研究 | 第44-46页 |
| ·PST靶材烧结温度的研究 | 第46-48页 |
| ·PST靶材制备及研究结果 | 第48页 |
| ·本章小节 | 第48-50页 |
| 第四章 PSI薄膜及制备工艺研究 | 第50-72页 |
| ·射频磁控溅射原理 | 第50-52页 |
| ·磁控溅射原理 | 第50-51页 |
| ·射频磁控溅射 | 第51-52页 |
| ·旋转磁场平面靶磁控溅射装置 | 第52-54页 |
| ·结构 | 第52-53页 |
| ·优点 | 第53-54页 |
| ·实验过程 | 第54-55页 |
| ·薄膜制备 | 第54-55页 |
| ·分析与表征 | 第55页 |
| ·PST薄膜及制备工艺研究 | 第55-71页 |
| ·基片的影响 | 第55-59页 |
| ·基片温度的影响 | 第59-62页 |
| ·溅射功率的影响 | 第62-65页 |
| ·氧氩比的影响 | 第65-66页 |
| ·退火温度的影响 | 第66-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 第五章 结论 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-79页 |
| 攻读硕士期间的研究成果 | 第79页 |
