| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-20页 |
| ·课题背景 | 第8-9页 |
| ·瑞利判据及衍射极限 | 第9-11页 |
| ·人工材料及其超透镜结构 | 第11-19页 |
| ·人工材料微纳结构 | 第11-13页 |
| ·超透镜的研究进展 | 第13-19页 |
| ·论文内容及结构安排 | 第19-20页 |
| 第2章 基于表面等离子体的超分辨光刻研究 | 第20-30页 |
| ·表面等离子体 | 第20-24页 |
| ·表面等离子体的基础 | 第20-22页 |
| ·表面等离子体的激发 | 第22-24页 |
| ·几种纳米光刻的方法及其优劣 | 第24-25页 |
| ·平面多层膜超透镜结构及其特性 | 第25-29页 |
| ·平面多层膜结构等效人工材料 | 第25-26页 |
| ·平面多层膜结构的色散曲线 | 第26-28页 |
| ·平面多层膜结构的光学传输特性 | 第28-29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 第3章 利用反射层增强成像质量的平面多层膜超分辨结构 | 第30-40页 |
| ·基础结构描述及成像原理介绍 | 第31-33页 |
| ·改进型成像结构设计及数值模拟结果 | 第33-36页 |
| ·有关影响成像效果因素的讨论 | 第36-39页 |
| ·掩膜周期的影响 | 第36页 |
| ·反射银层厚度的影响 | 第36-37页 |
| ·光刻胶厚度的影响 | 第37-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 平面多层膜超分辨光刻的实现及相关制备方法的研究 | 第40-63页 |
| ·实验的设计及工艺流程 | 第40-42页 |
| ·激光干涉光刻法制作100 纳米掩膜 | 第42-49页 |
| ·理论分析及设计 | 第43-45页 |
| ·样片的准备 | 第45页 |
| ·激光干涉光刻 | 第45-47页 |
| ·IBE 刻蚀 | 第47页 |
| ·分析与讨论 | 第47-49页 |
| ·平面多层膜的制备 | 第49-57页 |
| ·利用PMMA 对掩膜的填平 | 第49-52页 |
| ·多种膜层制备方法及其优劣 | 第52-54页 |
| ·利用磁控溅射沉积多层膜 | 第54-57页 |
| ·平面多层膜超分辨光刻的实现 | 第57-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第5章 总结及展望 | 第63-65页 |
| ·论文创新点及结果总结 | 第63页 |
| ·对未来发展方向的展望 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-74页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第74-75页 |