摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
引言 | 第9-12页 |
第一章 核工业中惰性气体的产生和释放 | 第12-31页 |
1.1 反应堆中重核反应和裂变产物的生成 | 第12-17页 |
1.2 裂变产物Kr和Xe的生成 | 第17-20页 |
1.3 反应堆中中子活化产生的Ar、Kr和Xe | 第20-26页 |
1.4 反应堆中惰性气体的释放 | 第26页 |
1.5 后处理工艺中惰性气体的释放和回收 | 第26-31页 |
第二章 放射性情性气体在核保障监督中的应用 | 第31-36页 |
2.1 ~(41)Ar和~(133)Xe在对不同运行状态的反应堆的核查应用 | 第31-33页 |
2.1.1 ~(41)Ar和~(133)Xe在对正在运行中的反应堆的核查应用 | 第31-32页 |
2.1.2 ~(41)Ar、~(133)Xe在对退役、停产、关闭的反应堆的核查应用 | 第32页 |
2.1.3 ~(41)Ar、~(133)Xe在对未申报的反应堆的核查应用 | 第32-33页 |
2.2 ~(85)Kr对不同运行状态的后处理厂的核查 | 第33-35页 |
2.2.1 ~(85)Kr对正在运行的后处理厂的核查 | 第33-34页 |
2.2.2 ~(85)Kr在对处于退役、关闭、停产状态的后处理厂的核查应用 | 第34页 |
2.2.3 ~(85)Kr对未申报后处理厂的核查 | 第34-35页 |
2.3 结论 | 第35-36页 |
第三章 用惰性气体稳定同位素对后处理厂保障监督的可行性研究 | 第36-53页 |
3.1 裂变产物的定量计算 | 第36-38页 |
3.2 从裂变产物估算乏燃料燃耗 | 第38-39页 |
3.3 Kr、Xe同位素丰度与燃耗监测 | 第39-46页 |
3.4 Kr、Xe、U、Pu相关同位素比值随燃耗的变化 | 第46-52页 |
3.4.1 U和Pu同位素与乏燃料燃耗的相关性 | 第46-48页 |
3.4.2 Kr和Xe同位素与乏燃料燃耗的相关性 | 第48-51页 |
3.4.3 Kr和Xe同位素与U和Pu同位素的相关性 | 第51-52页 |
3.5 结论 | 第52-53页 |
第四章 商用后处理厂释放气体中裂片惰性气体同位素分布研究 | 第53-71页 |
4.1 裂片惰性气体同位素分布计算 | 第54-55页 |
4.1.1 ORIGEN2基本原理 | 第54-55页 |
4.1.2 裂片惰性气体同位素计算 | 第55页 |
4.2 计算结果的验证 | 第55-59页 |
4.3 结果与讨论 | 第59-65页 |
附件1 ORIGEN计算不同燃耗时的锕系和裂片核素生成量(~(235)U起始丰度3%)的程序 | 第65-67页 |
附件2 ORIGEN对部分压水堆元件Kr、Xe裂片同位素的计算结果 | 第67-71页 |
第五章 用后处理厂烟囱中惰性气体同位素监测乏燃料燃耗的模拟实验研究 | 第71-98页 |
5.1 模拟样品的设计 | 第71-75页 |
5.1.1 后处理厂烟囱排气中Kr和Xe浓度计算 | 第71-74页 |
5.1.2 反应堆辐照实验设计 | 第74-75页 |
5.2.模拟样品的实验制备 | 第75-77页 |
5.2.1 靶件制做与反应堆 | 第75-76页 |
5.2.2 裂片惰性气体的收集和稀释 | 第76-77页 |
5.3 模拟样品的质谱测量 | 第77-84页 |
5.3.1 仪器的主要技术参数 | 第77-78页 |
5.3.2 样品纯化 | 第78-80页 |
5.3.3 质谱分析及质量歧视校正 | 第80-84页 |
5.4 实验数据处理 | 第84-87页 |
5.4.1 实验数据处理和空气本底扣除 | 第84-86页 |
5.4.2 裂变产生的Kr和Xe相关同位素比值的不确定度估算 | 第86-87页 |
5.5 结果与讨论 | 第87-98页 |
5.5.1 从测定的相关惰性气体同位素比值定性判断乏燃料燃耗的深浅 | 第87-91页 |
5.5.2 从相关同位素比值定量估算乏燃料燃耗 | 第91-98页 |
第六章 结论及进一步研究建议 | 第98-102页 |
6.1 主要结论 | 第98-99页 |
6.1.1 放射性惰性气体在核保障监督中的应用 | 第98页 |
6.1.2 后处理厂烟囱中稳定惰性气体同位素在核保障监督中的应用 | 第98-99页 |
6.2 进一步研究建议 | 第99-102页 |
6.2.1 进一步实验研究建议 | 第100页 |
6.2.2 进一步理论研究建议 | 第100-102页 |
符号说明 | 第102-103页 |
参考文献 | 第103-108页 |
攻读博士期间公开发表论文 | 第108页 |
攻读博士期间参加的学术会议 | 第108-109页 |
致谢 | 第109页 |