| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-15页 |
| 第1章 绪论 | 第15-49页 |
| ·引言 | 第15-17页 |
| ·偶氮苯小分子 | 第17页 |
| ·偶氮苯聚合物 | 第17-19页 |
| ·偶氮苯聚合物的光致异构化 | 第19-21页 |
| ·偶氮苯小分子的光致异构化 | 第19页 |
| ·偶氮苯聚合物的光致异构化 | 第19-21页 |
| ·偶氮苯液晶聚合物 | 第21-22页 |
| ·偶氮苯聚合物光致取向和光致双折射 | 第22-25页 |
| ·偶氮苯聚合物光致物质迁移 | 第25-26页 |
| ·偶氮苯聚合物在光子学方面的一些应用 | 第26-38页 |
| ·光子产生 | 第26-28页 |
| ·调控光致发光 | 第26-28页 |
| ·激光光源 | 第28页 |
| ·光子调控 | 第28-30页 |
| ·光开关 | 第28-29页 |
| ·偏振态调制 | 第29-30页 |
| ·分束器 | 第30页 |
| ·光子转换 | 第30-31页 |
| ·非线性光学特性 | 第30-31页 |
| ·光子存储 | 第31-37页 |
| ·显示 | 第31页 |
| ·全息存储 | 第31-34页 |
| ·表面浮雕光栅 | 第34-36页 |
| ·纯偏振光栅 | 第36-37页 |
| ·光子传输 | 第37-38页 |
| ·平面光波导 | 第37-38页 |
| ·光纤光波导 | 第38页 |
| ·研究目的和意义 | 第38-39页 |
| ·主要研究内容 | 第39-41页 |
| 参考文献 | 第41-49页 |
| 第2章 偶氮苯聚合物的光致折射率变化 | 第49-69页 |
| ·引言 | 第49-50页 |
| ·偶氮苯聚合物材料制备及测试 | 第50-56页 |
| ·偶氮苯单体的合成 | 第50-53页 |
| ·对氨基苯甲腈的合成 | 第50页 |
| ·4-羟基-4’-腈基偶氮苯的合成 | 第50-51页 |
| ·4-腈基-4’-(2-羟基乙氧基)偶氮苯的合成 | 第51-52页 |
| ·２-[4-（4-氰基偶氮苯基）苯氧基]乙基甲基丙烯酸酯 | 第52-53页 |
| ·偶氮苯聚合物的合成 | 第53页 |
| ·偶氮苯聚合物薄膜的制备 | 第53页 |
| ·实验原理及装置 | 第53-56页 |
| ·表面等离子体共振技术的原理 | 第53-54页 |
| ·折射率与膜厚的测试 | 第54-55页 |
| ·PSP技术实验装置 | 第55-56页 |
| ·其他实验装置 | 第56页 |
| ·偶氮苯聚合物的光致异构化 | 第56-58页 |
| ·偶氮苯聚合物光致折射率变化 | 第58-59页 |
| ·异构化与折射率变化之间的关系 | 第59-62页 |
| ·照射光强的影响 | 第62-63页 |
| ·折射率变化动力学与聚合物组成的关系 | 第63-65页 |
| ·偶氮苯聚合物光开关 | 第65-67页 |
| ·小结 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-69页 |
| 第3章 偶氮苯聚合物的光致双折射 | 第69-91页 |
| ·引言 | 第69页 |
| ·实验 | 第69-70页 |
| ·实验装置 | 第69-70页 |
| ·样品制备 | 第70页 |
| ·化学结构的影响因素 | 第70-78页 |
| ·简单掺杂与键合型偶氮苯聚合物 | 第70-72页 |
| ·苯环上的取代基 | 第72-73页 |
| ·间隔基团长度 | 第73-75页 |
| ·交联 | 第75-76页 |
| ·单双偶氮苯 | 第76-78页 |
| ·物理条件的影响因素 | 第78-84页 |
| ·偶氮苯基团浓度 | 第78-79页 |
| ·刻写光 | 第79-82页 |
| ·其他物理因素 | 第82-84页 |
| ·受限效应 | 第82页 |
| ·样品厚度 | 第82-83页 |
| ·压力 | 第83页 |
| ·温度 | 第83-84页 |
| ·制备高而稳定双折射偶氮苯材料的一些方法 | 第84-85页 |
| ·光致双折射的光擦除和光致手性 | 第85-86页 |
| ·小结 | 第86-87页 |
| 参考文献 | 第87-91页 |
| 第4章 偶氮苯聚合物平面光栅 | 第91-115页 |
| ·引言 | 第91-92页 |
| ·刻写长周期平面光栅 | 第92-101页 |
| ·逐点写入法 | 第92-95页 |
| ·狭缝逐点写入法 | 第92-94页 |
| ·偏振点光源直写法 | 第94-95页 |
| ·双频光栅法 | 第95-97页 |
| ·振幅掩模法 | 第97-101页 |
| ·实验装置 | 第97-98页 |
| ·长周期光栅及其衍射 | 第98页 |
| ·长周期表面浮雕光栅 | 第98-99页 |
| ·偏振长周期光栅 | 第99-100页 |
| ·偏振光栅和表面浮雕光栅的稳定性 | 第100页 |
| ·最低浓度的寻找 | 第100-101页 |
| ·刻写短周期平面光栅 | 第101-111页 |
| ·相位掩模法 | 第101-109页 |
| ·实验装置 | 第101-102页 |
| ·偶氮苯聚合物材料对刻写光源的光敏性 | 第102-104页 |
| ·相位掩模制得的短周期光栅 | 第104-105页 |
| ·理论分析 | 第105-109页 |
| ·干涉法 | 第109-111页 |
| ·小结 | 第111-112页 |
| 参考文献 | 第112-115页 |
| 第5章 偶氮苯聚合物光纤波导光栅 | 第115-133页 |
| ·引言 | 第115页 |
| ·偶氮苯聚合物光纤波导的制备 | 第115-122页 |
| ·聚合物光纤预制棒的制备系统 | 第115-117页 |
| ·偶氮苯掺杂聚合物光纤材料准备 | 第117-118页 |
| ·包层预制棒的制备 | 第118-119页 |
| ·偶氮苯光纤纤芯的制备 | 第119页 |
| ·偶氮苯聚合物光纤径向折射率分布 | 第119-122页 |
| ·偶氮苯聚合物光纤的拉制 | 第122页 |
| ·偶氮苯聚合物长周期双折射光纤光栅的刻写 | 第122-127页 |
| ·偶氮苯聚合物光纤中的取向 | 第122-124页 |
| ·偶氮苯长周期光纤光栅的理论分析 | 第124-126页 |
| ·偶氮苯长周期光纤光栅的刻写 | 第126-127页 |
| ·偏振可擦写的Bragg光纤光栅 | 第127-130页 |
| ·偏振可擦写Bragg光纤光栅的制备及表征 | 第127-129页 |
| ·偏振可擦写Bragg光纤光栅的理论分析 | 第129-130页 |
| ·小结 | 第130-131页 |
| 参考文献 | 第131-133页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的研究成果 | 第133-137页 |
| 致谢 | 第137-138页 |