软脆晶体碲镉汞超精密磨抛的试验研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-18页 |
| ·论文的选题背景 | 第9-10页 |
| ·CZT晶体的研究现状 | 第10-16页 |
| ·MCT材料的特性 | 第10-12页 |
| ·MCT材料的生长制备现状 | 第12-15页 |
| ·MCT材料的加工现状 | 第15-16页 |
| ·课题的研究目的与重要意义 | 第16页 |
| ·课题的来源及本文的研究内容 | 第16-18页 |
| ·课题的来源 | 第16页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第16-18页 |
| 2 MCT晶体的纳米力学性能测试 | 第18-34页 |
| ·纳米压痕技术的理论基础 | 第18-23页 |
| ·MCT晶体的纳米压痕试验 | 第23-29页 |
| ·试验条件 | 第23-25页 |
| ·试验结果及分析 | 第25-29页 |
| ·MCT晶体的纳米划痕试验 | 第29-33页 |
| ·试验条件 | 第29-30页 |
| ·试验结果及分析 | 第30-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 3 MCT晶体的超精密磨削试验 | 第34-49页 |
| ·脆性材料去除机理 | 第34-38页 |
| ·试验条件 | 第38-42页 |
| ·试验结果 | 第42-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 4 MCT晶体的化学机械抛光试验 | 第49-64页 |
| ·化学机械抛光技术 | 第49页 |
| ·试验条件 | 第49-55页 |
| ·试验设备 | 第49-50页 |
| ·试验样品的夹持方案 | 第50-51页 |
| ·检测仪器 | 第51-53页 |
| ·试验样品的清洗 | 第53页 |
| ·试验样品的研磨 | 第53-54页 |
| ·试验样品的粗抛 | 第54-55页 |
| ·抛光液中磨料的选择 | 第55-57页 |
| ·抛光液中氧化剂的选择 | 第57-59页 |
| ·抛光压力和抛光盘转速对化学机械抛光的影响 | 第59-62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-68页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
