| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-16页 |
| ·透明导电氧化物的应用及研究意义 | 第10页 |
| ·CuAlO_2 薄膜的发展及国内外研究现状 | 第10-11页 |
| ·CuAlO_2 的晶体结构和电子结构 | 第11-14页 |
| ·CuAlO_2 的晶体结构 | 第11-12页 |
| ·CuAlO_2 的电子结构 | 第12-14页 |
| ·本文的主要工作 | 第14-16页 |
| 第2章 样品的制备方法和表征方法 | 第16-26页 |
| ·CuAlO_2 薄膜的制备方法 | 第16-19页 |
| ·脉冲激光沉积方法（PLD） | 第16-17页 |
| ·磁控溅射方法 | 第17-18页 |
| ·化学气相沉积方法（CVD） | 第18页 |
| ·水热法和溶胶凝胶法 | 第18-19页 |
| ·CuAlO_2 靶材和薄膜的表征方法 | 第19-25页 |
| ·靶材和薄膜的结构分析-X 射线衍射法 | 第19页 |
| ·薄膜表面形态的测定-SEM | 第19页 |
| ·靶材和薄膜电导率的测定－四探针法测量 | 第19-22页 |
| ·霍尔系数测定原理 | 第22-23页 |
| ·薄膜光学性质研究 | 第23-25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 第3章 CuAlO_2多晶陶瓷的制备与研究 | 第26-34页 |
| ·CuAlO_2 多晶陶瓷的制备工艺 | 第26-27页 |
| ·CuAlO_2 多晶陶瓷的的结构分析 | 第27-30页 |
| ·未掺杂CuAlO_2 多晶陶瓷的XRD 谱分析 | 第27-28页 |
| ·掺杂对CuAlO_2 多晶陶瓷结构的影响 | 第28-30页 |
| ·CuAlO_2 多晶陶瓷电导率的测定 | 第30-33页 |
| ·CuA02 多晶陶瓷霍尔系数的测定 | 第33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第4章 CuAlO_2多晶薄膜的制备与物性表征 | 第34-49页 |
| ·PLD 方法制备CuAlO_2 多晶薄膜 | 第34-45页 |
| ·PLD 方法制备CuAlO_2 多晶薄膜的工艺 | 第35-36页 |
| ·衬底对CuAlO_2 多晶薄膜结构的影响 | 第36-38页 |
| ·衬底温度和氧分压对CuAlO_2 多晶薄膜结构的影响 | 第38-39页 |
| ·5%MgO 掺杂CuAlO_2 多晶薄膜的结构 | 第39-40页 |
| ·CuAlO_2 多晶薄膜的光学性质 | 第40-43页 |
| ·CuAlO_2 多晶薄膜的表面形貌 | 第43-45页 |
| ·磁控溅射法制备CuAlO_2 多晶薄膜 | 第45-47页 |
| ·氧分压和衬底温度对CuAlO_2 多晶薄膜结构的影响 | 第45-47页 |
| ·CuAlO_2 多晶薄膜的光学性质 | 第47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 结论 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-56页 |
| 致谢 | 第56页 |