| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-22页 |
| ·研究背景及意义 | 第8-13页 |
| ·P 型透明导电氧化物(TCO)薄膜的发展现状 | 第13-17页 |
| ·铜铁矿系氧化物 | 第13-14页 |
| ·氧硫族化合物 | 第14-15页 |
| ·氟硫化合物 | 第15-16页 |
| ·p 型多元TCO 薄膜 | 第16-17页 |
| ·p 型TCO 薄膜的制备方法 | 第17-20页 |
| ·化学气相沉积 | 第17-18页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第18-19页 |
| ·磁控溅射法 | 第19页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第19-20页 |
| ·论文研究的主要内容 | 第20-22页 |
| 第2章 实验原理与研究方法 | 第22-31页 |
| ·实验材料 | 第22页 |
| ·PLD 基本原理 | 第22-25页 |
| ·分析测试方法 | 第25-30页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第25-26页 |
| ·原子力显微镜 | 第26-27页 |
| ·X 射线光电子能谱 | 第27页 |
| ·轮廓仪 | 第27-28页 |
| ·四探针测试仪 | 第28-29页 |
| ·分光光度计 | 第29页 |
| ·傅里叶变换红外光谱仪 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第3章 Ni_(1-x)Co_xO_(4/3)薄膜的制备 | 第31-40页 |
| ·引言 | 第31-32页 |
| ·靶材的制备 | 第32-34页 |
| ·实验过程 | 第32-33页 |
| ·实验结果与讨论 | 第33-34页 |
| ·脉冲激光沉积系统 | 第34-37页 |
| ·准分子激光器 | 第35页 |
| ·光学系统 | 第35-36页 |
| ·生长室系统 | 第36页 |
| ·抽气系统 | 第36-37页 |
| ·供气系统 | 第37页 |
| ·控制系统 | 第37页 |
| ·薄膜的制备 | 第37-39页 |
| ·制备薄膜的工艺参数 | 第37-38页 |
| ·制备薄膜的工艺流程 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 Ni_(1-x)Co_xO_(4/3)薄膜性能测试与分析 | 第40-55页 |
| ·表面形貌观察 | 第40-42页 |
| ·AFM 测试结果与分析 | 第40-41页 |
| ·SEM 形貌分析 | 第41-42页 |
| ·薄膜的XPS 表征 | 第42-49页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第49-50页 |
| ·薄膜的电学性能测试结果与分析 | 第50-51页 |
| ·薄膜的光学性能测试结果与分析 | 第51-54页 |
| ·可见光波段透过率 | 第51-52页 |
| ·红外波段透过率 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 结论 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-61页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 个人简历 | 第64页 |