| 中文摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-17页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·纳米多层膜的研究概况与简介 | 第12-14页 |
| ·纳米多层膜的研究背景 | 第12-13页 |
| ·纳米多层膜的构成及特性 | 第13-14页 |
| ·纳米多层膜的发展方向 | 第14页 |
| ·本文的研究背景、目的和意义 | 第14-16页 |
| ·本文研究的内容 | 第16-17页 |
| 第二章 薄膜的制备技术及实验原理 | 第17-26页 |
| ·固态薄膜的常用制备技术 | 第17-18页 |
| ·磁控溅射镀膜技术 | 第18-22页 |
| ·溅射现象及其机理 | 第18-19页 |
| ·溅射镀膜的特点 | 第19-20页 |
| ·基本溅射镀膜类型 | 第20-22页 |
| ·多弧离子镀膜技术 | 第22-26页 |
| ·多弧离子镀原理 | 第22-24页 |
| ·多弧离子镀工艺参数 | 第24-25页 |
| ·多弧离子镀技术的应用 | 第25-26页 |
| 第三章 薄膜的结构和性能的测试方法 | 第26-34页 |
| ·薄膜的结构测试方法——X射线衍射(XRD)分析 | 第26页 |
| ·薄膜的力学性能测试方法 | 第26-34页 |
| ·薄膜的厚度、残余应力测试 | 第26-28页 |
| ·薄膜的硬度测试 | 第28-32页 |
| ·薄膜与基底的结合力测试 | 第32-33页 |
| ·薄膜的摩擦性能测试 | 第33-34页 |
| 第四章 ZrB_2/AlN纳米多层膜的制备和性能研究 | 第34-58页 |
| ·ZrB_2/AlN纳米多层膜制备前的基材预处理 | 第34页 |
| ·ZrB_2/AlN纳米多层膜制备的实验装置 | 第34-35页 |
| ·ZrB_2/AlN纳米多层膜的制备过程 | 第35-36页 |
| ·实验参数对ZrB_2/AlN纳米多层膜结构和性能的影响 | 第36-50页 |
| ·调制周期对ZrB_2/AlN纳米多层膜结构和性能的影响 | 第36-42页 |
| ·调制比例对ZrB_2/AlN纳米多层膜结构和性能的影响 | 第42-45页 |
| ·工作气压对ZrB_2/AlN纳米多层膜结构和性能的影响 | 第45-47页 |
| ·基底偏压对ZrB_2/AlN纳米多层膜结构和性能的影响 | 第47-50页 |
| ·薄膜的小角X射线衍射(LA-XRD)分析 | 第50-51页 |
| ·薄膜与基底结合力划痕测试结果分析 | 第51-54页 |
| ·ZrB_2/AlN纳米多层膜的致硬机理分析 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第五章 CrN/AIN纳米多层膜的制备和性能研究 | 第58-71页 |
| ·CrN/AlN纳米多层膜制备的实验装置 | 第58页 |
| ·CrN/AlN纳米多层膜的制备过程 | 第58-60页 |
| ·CrN/AlN纳米多层膜的结构分析 | 第60-64页 |
| ·多层膜的小角X射线衍射(LA-XRD)分析 | 第60-61页 |
| ·薄膜的大角度XRD分析 | 第61-64页 |
| ·CrN/AlN纳米多层膜的力学性能分析 | 第64-68页 |
| ·CrN/AlN多层膜的残余应力分析 | 第64-65页 |
| ·CrN/AlN多层膜的硬度和弹性模量分析 | 第65-67页 |
| ·CrN/AlN多层膜的摩擦性能分析 | 第67-68页 |
| ·CrN/AlN纳米多层膜致硬机理分析 | 第68-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 第六章 问题与展望 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-78页 |
| 硕士在读期间发表的论文 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
