| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·纳米多层膜的制备方法 | 第11-16页 |
| ·沉积法 | 第11-14页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第14页 |
| ·自组装技术 | 第14-15页 |
| ·其他制备方法 | 第15-16页 |
| ·研究背景与意义 | 第16-17页 |
| ·研究的主要内容 | 第17-19页 |
| 第二章 TiB_2/TiAlN纳米多层膜的制备与性能检测 | 第19-33页 |
| ·实验装置 | 第19页 |
| ·实验原理 | 第19-21页 |
| ·靶材和基片 | 第21页 |
| ·实验的基本工艺参数 | 第21-23页 |
| ·基本工艺参数 | 第21-23页 |
| ·溅射工艺参数的选择 | 第23页 |
| ·实验流程 | 第23-24页 |
| ·薄膜的结构和性能检测 | 第24-31页 |
| ·结构测试——X射线衍射(XRD)分析 | 第24页 |
| ·薄膜的力学性能测试方法 | 第24-31页 |
| ·文章小结 | 第31-33页 |
| 第三章 TiB_2/TiAlN纳米多层膜结构和力学性能 | 第33-51页 |
| ·初步试验及性能分析 | 第33-37页 |
| ·单层TiB_2薄膜的制备与力学性能测试 | 第33-35页 |
| ·单层TiAlN薄膜的制备与力学性能测试 | 第35-37页 |
| ·实验参数对TiB_2/TiAlN纳米多层膜结构和性能的影响 | 第37-43页 |
| ·调制周期对TiB_2/TiAlN纳米多层膜结构和性能的影响 | 第37-40页 |
| ·调制比例对TiB_2/TiAlN纳米多层膜结构和性能的影响 | 第40-43页 |
| ·多层薄膜的结构分析 | 第43-44页 |
| ·薄膜与基底结合力划痕测试结果分析 | 第44-46页 |
| ·TiB_2/TiAlN纳米多层膜的致硬机理分析 | 第46-48页 |
| ·超硬纳米多层膜的研究有几个亟待解决的问题 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 第四章 钛酸钡薄膜的结构和力学性能初步研究 | 第51-55页 |
| ·实验设备及材料 | 第51页 |
| ·射频磁控溅射沉积BaTiO_3薄膜的制备过程 | 第51页 |
| ·基底温度对BaTiO_3薄膜的结构和力学性能的影响 | 第51-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 问题与展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第60-61页 |
| 硕士在读期间获得的奖励 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
