中文摘要 | 第1-5页 |
英文摘要 | 第5-10页 |
1 绪论 | 第10-36页 |
·自旋电子学概述 | 第10-11页 |
·稀磁半导体概述 | 第11-22页 |
·稀磁半导体的概念 | 第11-12页 |
·稀磁半导体的磁性来源 | 第12-19页 |
·掺杂的过渡金属、稀土金属及部分化合物的磁性 | 第19-20页 |
·稀磁半导体的研究现状 | 第20-22页 |
·ZnO 基稀磁半导体研究历史及现状 | 第22-34页 |
·ZnO 基DMSs 的研究进展 | 第22-23页 |
·ZnO 基DMSs 的理论计算 | 第23-24页 |
·ZnO 基DMSs 的实验研究进展 | 第24-34页 |
·选题依据及本文的研究方向及内容 | 第34-36页 |
·选题依据 | 第34-35页 |
·研究内容 | 第35-36页 |
2 样品的制备及表征 | 第36-42页 |
·溶液腐蚀法制备样品 | 第36-38页 |
·样品的制备过程 | 第36-37页 |
·纳米棒阵列形成过程 | 第37-38页 |
·测试仪器及方法 | 第38-41页 |
·X-射线衍射谱 | 第38页 |
·扫描电子显微镜 | 第38-39页 |
·X-射线光电子能谱(XPS) | 第39-40页 |
·光致发光(PL) | 第40页 |
·磁性测量 | 第40-41页 |
·本章小结 | 第41-42页 |
3 Mn 掺杂 ZnO 薄膜的结构、光学和磁学性质研究 | 第42-58页 |
·样品制备 | 第43页 |
·结构分析 | 第43-44页 |
·形貌分析 | 第44页 |
·成分分析 | 第44-45页 |
·紫外-可见光反射谱 | 第45-47页 |
·光致发光(PL) | 第47-54页 |
·半导体材料光致发光原理 | 第47-49页 |
·实验数据及分析 | 第49-54页 |
·样品磁性分析 | 第54-57页 |
·本章小结 | 第57-58页 |
4 Ni 掺杂 ZnO 薄膜的结构、光学和磁学性质研究 | 第58-68页 |
·样品制备 | 第58页 |
·结构分析 | 第58-59页 |
·形貌分析 | 第59-60页 |
·成分分析 | 第60-62页 |
·紫外-可见光反射谱 | 第62-63页 |
·光致发光(PL) | 第63-64页 |
·样品磁性分析 | 第64-65页 |
·本章小结 | 第65-68页 |
5 Fe 掺杂 ZnO 薄膜的结构、光学和磁学性质研究 | 第68-78页 |
·样品制备 | 第68-69页 |
·结构分析 | 第69-71页 |
·形貌分析 | 第71-72页 |
·成分分析 | 第72-73页 |
·紫外-可见光反射谱 | 第73-74页 |
·光致发光(PL) | 第74-75页 |
·样品磁性分析 | 第75-76页 |
·本章小结 | 第76-78页 |
6 Cu 掺杂 ZnO 薄膜的结构、光学和磁学性质研究 | 第78-84页 |
·样品制备 | 第78-79页 |
·结构分析 | 第79页 |
·形貌分析 | 第79-80页 |
·成分分析 | 第80-81页 |
·光致发光(PL) | 第81-82页 |
·样品磁性分析 | 第82-83页 |
·本章小结 | 第83-84页 |
7 总结与展望 | 第84-88页 |
·主要结论 | 第84-85页 |
·后续工作展望 | 第85-88页 |
致谢 | 第88-90页 |
参考文献 | 第90-102页 |
附录:作者在攻读博士学位期间发表的论文目录 | 第102页 |