应用于新型显示技术的衍射光学器件研究
| 致谢 | 第5-7页 |
| 摘要 | 第7-9页 |
| Abstract | 第9-10页 |
| 1 绪论 | 第14-32页 |
| 1.1 新型显示技术 | 第14-22页 |
| 1.1.1 全息显示 | 第14-15页 |
| 1.1.2 激光投影显示 | 第15-17页 |
| 1.1.3 光场显示 | 第17-19页 |
| 1.1.4 光学穿透式头戴显示技术 | 第19-22页 |
| 1.2 衍射光学器件在新型显示技术中的应用 | 第22-29页 |
| 1.2.1 DOE光束整形器 | 第22-23页 |
| 1.2.2 全息散射屏 | 第23-27页 |
| 1.2.3 体全息光栅耦合器 | 第27-29页 |
| 1.3 本文主要研究工作 | 第29-32页 |
| 2 激光投影显示光束整形器件设计 | 第32-51页 |
| 2.1 引言 | 第32页 |
| 2.2 DOE设计基础理论 | 第32-36页 |
| 2.2.1 DOE光束整形模型 | 第32-33页 |
| 2.2.2 采样问题 | 第33-35页 |
| 2.2.3 仿真平台的正确性验证 | 第35-36页 |
| 2.3 单波长DOE算法 | 第36-46页 |
| 2.3.1 几何变换法 | 第36-41页 |
| 2.3.2 迭代傅里叶变换算法 | 第41-45页 |
| 2.3.3 全局优化算法 | 第45-46页 |
| 2.4 改进单波长DOE设计算法 | 第46-50页 |
| 2.4.1 算法原理 | 第47-48页 |
| 2.4.2 仿真计算 | 第48-49页 |
| 2.4.3 算法分析 | 第49-50页 |
| 2.5 本章总结 | 第50-51页 |
| 3 光场显示高性能定向散射屏设计 | 第51-66页 |
| 3.1 引言 | 第51页 |
| 3.2 多波长DOE设计算法 | 第51-54页 |
| 3.3 基于动态权重与预优化初始值的PSO算法 | 第54-57页 |
| 3.3.1 优化目标建模 | 第54-56页 |
| 3.3.2 算法描述 | 第56-57页 |
| 3.4 数值仿真 | 第57-59页 |
| 3.4.1 设计参数和优化结果 | 第57-58页 |
| 3.4.2 目标面光强分布仿真结果 | 第58-59页 |
| 3.5 实验验证 | 第59-63页 |
| 3.5.1 DOE加工 | 第59-61页 |
| 3.5.2 DOE整形实验结果 | 第61-63页 |
| 3.6 分析与讨论 | 第63-65页 |
| 3.6.1 仿真结果与实验结果的差异 | 第63-64页 |
| 3.6.2 像素尺寸和最大刻蚀深度对结果的影响 | 第64-65页 |
| 3.7 本章小结 | 第65-66页 |
| 4 用于全息波导显示的渐变体全息光栅设计 | 第66-96页 |
| 4.1 引言 | 第66页 |
| 4.2 Kogelnik耦合波理论 | 第66-71页 |
| 4.2.1 反射式体全息光栅衍射效率计算 | 第67-69页 |
| 4.2.2 反射式和透射式体全息光栅的性能差异 | 第69-71页 |
| 4.3 工作原理 | 第71-76页 |
| 4.3.1 系统概述 | 第71-72页 |
| 4.3.2 反射式渐变体全息光栅 | 第72-74页 |
| 4.3.3 视场的限制因素 | 第74-76页 |
| 4.4 系统参数设计 | 第76-79页 |
| 4.4.1 基本参数设计 | 第76页 |
| 4.4.2 记录光角度设计 | 第76-78页 |
| 4.4.3 子视场中心角度设计 | 第78-79页 |
| 4.5 SVVHG曝光系统设计与搭建 | 第79-86页 |
| 4.5.1 曝光系统分析 | 第79-80页 |
| 4.5.2 初始曝光系统 | 第80-82页 |
| 4.5.3 改进的曝光系统 | 第82-83页 |
| 4.5.4 曝光系统的搭建 | 第83-85页 |
| 4.5.5 曝光参数计算 | 第85-86页 |
| 4.6 显示实验 | 第86-93页 |
| 4.6.1 SVVHG测试 | 第86-88页 |
| 4.6.2 原型机和显示结果 | 第88-91页 |
| 4.6.3 AR应用实验 | 第91-93页 |
| 4.7 分析与讨论 | 第93-95页 |
| 4.7.1 均匀性分析 | 第93-94页 |
| 4.7.2 全彩色显示 | 第94-95页 |
| 4.8 本章小结 | 第95-96页 |
| 5 总结与展望 | 第96-98页 |
| 参考文献 | 第98-104页 |
| 作者简历 | 第104-105页 |
