| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 文献综述 | 第12-26页 |
| 1.1 前言 | 第12-13页 |
| 1.2 碳化硅陶瓷膜 | 第13-19页 |
| 1.2.1 碳化硅的结构 | 第14-15页 |
| 1.2.2 陶瓷膜的制备方法 | 第15-17页 |
| 1.2.3 碳化硅陶瓷膜的应用 | 第17-18页 |
| 1.2.4 碳化硅陶瓷膜的研究现状 | 第18-19页 |
| 1.3 碳化硅陶瓷浆料的研究 | 第19-22页 |
| 1.3.1 碳化硅浆料的稳定机理 | 第19-20页 |
| 1.3.2 碳化硅浆料的研究现状 | 第20-22页 |
| 1.4 氮化硅的特性 | 第22-24页 |
| 1.5 研究的意义、目的及内容 | 第24-26页 |
| 1.5.1 研究意义与目的 | 第24页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第24-26页 |
| 第2章 实验原料及设备 | 第26-36页 |
| 2.1 实验原料及设备 | 第26-29页 |
| 2.1.1 实验原料 | 第26-28页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第28-29页 |
| 2.2 实验方法 | 第29-30页 |
| 2.2.1 碳化硅陶瓷浆料的制备 | 第29页 |
| 2.2.2 碳化硅陶瓷膜的制备 | 第29-30页 |
| 2.3 测试及表征 | 第30-36页 |
| 2.3.1 浆料粘度 | 第30页 |
| 2.3.2 膜层表面 | 第30-31页 |
| 2.3.3 Zeta电位 | 第31页 |
| 2.3.4 沉降高度 | 第31页 |
| 2.3.5 粒度分布 | 第31-32页 |
| 2.3.6 物相分析 | 第32页 |
| 2.3.7 形貌分析 | 第32页 |
| 2.3.8 孔径分布测试 | 第32-34页 |
| 2.3.9 纯水通量测试 | 第34-36页 |
| 第3章 碳化硅浆料的制备及性能研究 | 第36-62页 |
| 3.1 引言 | 第36页 |
| 3.2 固含量对碳化硅浆料性能的影响 | 第36-42页 |
| 3.2.1 固含量对碳化硅浆料粘度的影响 | 第37-38页 |
| 3.2.2 固含量对碳化硅浆料沉降性能的影响 | 第38-39页 |
| 3.2.3 固含量对碳化硅浆料粒度分布的影响 | 第39-40页 |
| 3.2.4 固含量对碳化硅浆料成膜效果的影响 | 第40-41页 |
| 3.2.5 固含量对碳化硅膜层厚度的影响 | 第41-42页 |
| 3.3 分散剂对碳化硅浆料的性能的影响 | 第42-50页 |
| 3.3.1 不同分散剂和pH值对碳化硅浆料Zeta电位的影响 | 第43-44页 |
| 3.3.2 不同分散剂及pH值对碳化硅浆料粘度的影响 | 第44-45页 |
| 3.3.3 不同分散剂对碳化硅浆料沉降性能的影响 | 第45-46页 |
| 3.3.4 不同分散剂对碳化硅浆料粒度分布的影响 | 第46-48页 |
| 3.3.5 不同分散剂对碳化硅浆料成膜效果的影响 | 第48-49页 |
| 3.3.6 不同分散剂对碳化硅膜层厚度的影响 | 第49-50页 |
| 3.4 分散剂用量对碳化硅浆料性能的影响 | 第50-56页 |
| 3.4.1 TMAH添加量对碳化硅浆料Zeta电位的影响 | 第50-51页 |
| 3.4.2 TMAH添加量对碳化硅浆料粘度的影响 | 第51-52页 |
| 3.4.3 TMAH添加量对碳化硅浆料沉降性能的影响 | 第52-53页 |
| 3.4.4 TMAH添加量对碳化硅浆料粒度分布的影响 | 第53-54页 |
| 3.4.5 TMAH添加量对碳化硅浆料成膜效果的影响 | 第54-55页 |
| 3.4.6 TMAH添加量对碳化硅膜层厚度的影响 | 第55-56页 |
| 3.5 氮化硅添加量对碳化硅浆料性能的影响 | 第56-60页 |
| 3.5.1 氮化硅添加量对碳化硅浆料粘度的影响 | 第56-57页 |
| 3.5.2 氮化硅添加量对碳化硅浆料沉降性能的影响 | 第57页 |
| 3.5.3 氮化硅添加量对碳化硅浆料粒度分布的影响 | 第57页 |
| 3.5.4 氮化硅添加量对碳化硅浆料成膜效果的影响 | 第57-58页 |
| 3.5.5 氮化硅添加量对碳化硅膜层厚度的影响 | 第58-60页 |
| 3.6 本章小结 | 第60-62页 |
| 第4章 氮化硅添加与转化对碳化硅陶瓷膜的制备及其性能影响 | 第62-78页 |
| 4.1 引言 | 第62页 |
| 4.2 氮化硅转化为碳化硅研究 | 第62-65页 |
| 4.2.1 氮化硅转化碳化硅反应温度的研究 | 第63-64页 |
| 4.2.2 氮化硅转化碳化硅形貌的研究 | 第64页 |
| 4.2.3 氮化硅转化碳化硅机理 | 第64-65页 |
| 4.3 烧成温度对碳化硅成膜及孔径的影响 | 第65-70页 |
| 4.3.1 烧成温度对碳化硅膜表面性能的影响 | 第65-66页 |
| 4.3.2 烧成温度对碳化硅膜物相的影响 | 第66-67页 |
| 4.3.3 反应温度对碳化硅膜形貌的影响 | 第67-69页 |
| 4.3.4 烧成温度对碳化硅膜孔径分布的影响 | 第69-70页 |
| 4.3.5 烧成温度对碳化硅膜纯水通量的影响 | 第70页 |
| 4.4 氮化硅添加量对碳化硅成膜及孔径的影响 | 第70-75页 |
| 4.4.1 氮化硅添加量对碳化硅膜表面性能的影响 | 第71-72页 |
| 4.4.2 氮化硅添加量对碳化硅膜物相的影响 | 第72页 |
| 4.4.3 氮化硅添加量对碳化硅膜形貌的影响 | 第72-74页 |
| 4.4.4 氮化硅添加量对碳化硅膜孔径分布的影响 | 第74-75页 |
| 4.4.5 氮化硅添加量对碳化硅膜纯水通量的影响 | 第75页 |
| 4.5 本章小结 | 第75-78页 |
| 第5章 结论 | 第78-80页 |
| 参考文献 | 第80-88页 |
| 攻读硕士期间研究成果 | 第88-90页 |
| 致谢 | 第90页 |
