| 致谢 | 第5-6页 |
| 中文摘要 | 第6-8页 |
| 英文摘要 | 第8-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-36页 |
| 1.1 概述 | 第13-33页 |
| 1.1.1 头孢菌素过敏反应和发生机理 | 第13-15页 |
| 1.1.2 高分子杂质和杂质谱概述 | 第15-16页 |
| 1.1.3 头孢菌素中杂质分析方法概述 | 第16-22页 |
| 1.1.4 MALDI-TOF MS/MS技术简介 | 第22-33页 |
| 1.2 课题设计及研究意义 | 第33-35页 |
| 1.3 本章小结 | 第35-36页 |
| 第二章 基于MALDI-TOF MS/MS技术平台的头孢菌素中致敏性高分子杂质分析系统建立 | 第36-62页 |
| 2.1 MALDI-TOF MS/MS技术鉴定盐酸头孢他美酯中致敏性高分子杂质的结构 | 第36-44页 |
| 2.1.1 仪器与试药 | 第36-37页 |
| 2.1.2 方法与结果 | 第37-43页 |
| 2.1.3 讨论与总结 | 第43-44页 |
| 2.2 MALDI-TOF MS/MS技术鉴定头孢呋辛酯中致敏性高分子杂质的结构 | 第44-56页 |
| 2.2.1 仪器与试药 | 第44-45页 |
| 2.2.2 方法与结果 | 第45-54页 |
| 2.2.3 讨论与总结 | 第54-56页 |
| 2.3 头孢菌素中致敏性高分子杂质的MALDI质谱裂解规律探讨 | 第56-58页 |
| 2.4 头孢菌素中致敏性高分子杂质产生机理 | 第58-59页 |
| 2.5 致敏性高分子杂质的来源及工艺相关性分析 | 第59-60页 |
| 2.6 本章小结 | 第60-62页 |
| 第三章 盐酸头孢他美酯的杂质谱研究 | 第62-115页 |
| 3.1 液相色谱-三重四级杆飞行时间质谱（LC-Q TOF MS）等技术研究盐酸头孢他美酯杂质谱 | 第62-77页 |
| 3.1.1 仪器与试剂 | 第62-63页 |
| 3.1.2 方法与结果 | 第63-74页 |
| 3.1.3 讨论与总结 | 第74-77页 |
| 3.2 盐酸头孢他美酯中3个未知杂质的分离制备和结构确证 | 第77-87页 |
| 3.2.1 仪器与试药 | 第77页 |
| 3.2.2 方法与结果 | 第77-86页 |
| 3.2.3 讨论与总结 | 第86-87页 |
| 3.3 建立HPLC梯度洗脱法分析盐酸头孢他美酯的有关物质 | 第87-97页 |
| 3.3.1 仪器与试药 | 第88页 |
| 3.3.2 分析条件的选择 | 第88-90页 |
| 3.3.3 方法与结果 | 第90-96页 |
| 3.3.4 讨论与总结 | 第96-97页 |
| 3.4 应用ADMET predictor预测软件评价盐酸头孢他美酯中杂质的毒性 | 第97-111页 |
| 3.4.1 ADMET predictor预测软件预测结果 | 第97-111页 |
| 3.4.2 讨论与总结 | 第111页 |
| 3.5 杂质产生原因及工艺相关性分析 | 第111-114页 |
| 3.6 本章小结 | 第114-115页 |
| 总结与展望 | 第115-117页 |
| 参考文献 | 第117-131页 |
| 博士期间发表的论文和专利 | 第131-132页 |
| 附录（原始图谱） | 第132-152页 |
