| 摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-35页 |
| 1.1 引言 | 第13-15页 |
| 1.2 光电催化概述 | 第15-30页 |
| 1.2.1 光电催化发展历程 | 第15-16页 |
| 1.2.2 光电催化反应工作原理 | 第16-19页 |
| 1.2.3 影响光电催化性能的因素 | 第19-24页 |
| 1.2.4 优化光电催化性能的途径 | 第24-30页 |
| 1.3 WO_3纳米材料在光电催化的应用 | 第30-33页 |
| 1.3.1 提高WO_3光电催化性能的方法 | 第30-32页 |
| 1.3.2 WO_3光电催化存在的问题 | 第32-33页 |
| 1.4 本文选题的目的、意义和研究内容 | 第33-35页 |
| 1.4.1 本文选题的目的 | 第33-34页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第34-35页 |
| 第二章 实验条件及测试方法 | 第35-41页 |
| 2.1 化学试剂与原料 | 第35-36页 |
| 2.2 实验仪器和设备 | 第36-37页 |
| 2.3 材料表征技术 | 第37-40页 |
| 2.3.1 X射线衍射 | 第37-38页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜 | 第38页 |
| 2.3.3 高分辨透射电镜和选区电子衍射 | 第38页 |
| 2.3.4 X射线光电子能谱仪 | 第38-39页 |
| 2.3.5 拉曼光谱仪 | 第39页 |
| 2.3.6 傅里叶变换红外光谱仪 | 第39页 |
| 2.3.7 荧光光谱 | 第39-40页 |
| 2.3.8 固体紫外-可见漫反射吸收光谱 | 第40页 |
| 2.4 材料的光电性能测试 | 第40-41页 |
| 第三章 侵蚀处理WO_3垂直纳米片光阳极及其光电催化性能研究 | 第41-54页 |
| 3.1 背景和思路的提出 | 第41-42页 |
| 3.2 实验部分 | 第42-44页 |
| 3.2.1 WO_3NP阵列的制备 | 第42-43页 |
| 3.2.2 侵蚀处理 | 第43页 |
| 3.2.3 光电催化性能测试条件 | 第43-44页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第44-53页 |
| 3.3.1 结构形貌表征 | 第44-48页 |
| 3.3.2 光电催化性能测试 | 第48-53页 |
| 3.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第四章 碳量子点敏化WO_3垂直纳米片光阳极及其光电催化性能研究 | 第54-68页 |
| 4.1 背景和思路的提出 | 第54-55页 |
| 4.2 实验部分 | 第55-56页 |
| 4.2.1 WO_3NP阵列的制备 | 第55页 |
| 4.2.2 碳量子点（CQDs）制备 | 第55页 |
| 4.2.3 CQDs/WO_3复合材料制备 | 第55-56页 |
| 4.2.4 光电催化性能测试条件 | 第56页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第56-66页 |
| 4.3.1 CQDs结构形貌表征 | 第56-58页 |
| 4.3.2 CQDs/WO_3的结构形貌表征 | 第58-62页 |
| 4.3.3 光电催化性能测试 | 第62-65页 |
| 4.3.4 CQDs/WO_3的光电催化机理 | 第65-66页 |
| 4.4 本章小结 | 第66-68页 |
| 第五章 基于WO_3垂直纳米片光阳极分子界面工程及其光电催化性能研究 | 第68-90页 |
| 5.1 背景和思路的提出 | 第68-69页 |
| 5.2 实验部分 | 第69-73页 |
| 5.2.1 WO_3NP阵列的制备 | 第69-70页 |
| 5.2.2 硅烷分子表面修饰 | 第70页 |
| 5.2.3 其它半导体光阳极材料的制备 | 第70-71页 |
| 5.2.4 光电催化性能测试条件 | 第71-72页 |
| 5.2.5 光电催化性能测试条件 | 第72-73页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第73-89页 |
| 5.3.1 结构形貌表征 | 第73-77页 |
| 5.3.2 光电催化性能测试 | 第77-89页 |
| 5.4 本章小结 | 第89-90页 |
| 第六章 基于WO_3垂直纳米片的WO_3NS/Si/GO光阳极光电催化电荷转移和表面反应 | 第90-106页 |
| 6.1 背景和思路的提出 | 第90-92页 |
| 6.2 实验部分 | 第92-93页 |
| 6.2.1 WO_3NS阵列的制备 | 第92页 |
| 6.2.2 硅烷分子表面修饰 | 第92页 |
| 6.2.3 WO_3NS/Si/GO光阳极材料的制备 | 第92页 |
| 6.2.4 光电催化性能测试条件 | 第92-93页 |
| 6.3 结果与讨论 | 第93-105页 |
| 6.3.1 结构形貌表征 | 第93-98页 |
| 6.3.2 光电催化性能测试 | 第98-104页 |
| 6.3.3 WO_3NS/Si/GO电极的光电催化机理 | 第104-105页 |
| 6.4 本章小结 | 第105-106页 |
| 第七章 全文总结与展望 | 第106-109页 |
| 7.1 总结 | 第106-107页 |
| 7.2 论文的创新点 | 第107-108页 |
| 7.3 后续工作与展望 | 第108-109页 |
| 参考文献 | 第109-126页 |
| 博士期间发表的学术论文 | 第126-127页 |
| 致谢 | 第127页 |
