| 致谢 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目次 | 第8-10页 |
| 1 绪论 | 第10-29页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·纳米多层薄膜 | 第10-18页 |
| ·纳米多层膜的超硬现象及机理 | 第11-15页 |
| ·纳米多层膜的材料体系 | 第15-17页 |
| ·氮化物纳米多层膜 | 第17-18页 |
| ·非晶碳薄膜 | 第18-22页 |
| ·非晶碳(a-C)薄膜的结构 | 第18-20页 |
| ·非晶碳(a-C)薄膜的性能及应用 | 第20-21页 |
| ·a-C薄膜的掺杂 | 第21-22页 |
| ·薄膜的物理气相沉积(PVD) | 第22-28页 |
| ·离子镀(Ion Plating) | 第23-24页 |
| ·磁控溅射(Magnetron Sputtering) | 第24-26页 |
| ·真空蒸镀(Vacuum Evaporation) | 第26页 |
| ·脉冲激光沉积(Pulse Laser Deposition) | 第26-27页 |
| ·离子注入(Ion Implantation) | 第27-28页 |
| ·本课题的立题依据和研究意义 | 第28-29页 |
| 2 磁控溅射制备多层膜和复合膜 | 第29-37页 |
| ·磁控溅射设备 | 第29-30页 |
| ·基底材料的预处理 | 第30-31页 |
| ·高速钢基底的预处理 | 第30页 |
| ·单晶硅片基底的预处理 | 第30-31页 |
| ·磁控溅射镀膜过程 | 第31-33页 |
| ·直流磁控溅射制备CrN/W_2N多层膜的步骤 | 第31-32页 |
| ·直流磁控溅射制备Ti/a-C复合膜的步骤 | 第32-33页 |
| ·薄膜的结构及性能测试 | 第33-36页 |
| ·形貌和结构分析 | 第33-34页 |
| ·非晶碳薄膜的拉曼光谱测试(Raman) | 第34页 |
| ·硬度及结合力性能测试 | 第34-35页 |
| ·摩擦磨损性能测试 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 3 CrN/W_2N多层膜的结构和性能 | 第37-53页 |
| ·薄膜的形貌及结构分析 | 第37-42页 |
| ·CrN/W_2N多层膜及复合膜的界面形貌 | 第37-40页 |
| ·CrN/W_2N多层膜的HRTEM表征 | 第40页 |
| ·多层膜及复合膜的XRD分析 | 第40-42页 |
| ·多层膜及复合膜的硬度及结合力分析 | 第42-47页 |
| ·多层膜及复合膜的摩擦磨损性能分析 | 第47-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 4 Ti/a-C复合薄膜的结构和性能 | 第53-68页 |
| ·薄膜的表面形貌及截面形貌 | 第53页 |
| ·薄膜的结构分析 | 第53-59页 |
| ·薄膜的硬度及结合力分析 | 第59-62页 |
| ·a-C薄膜的摩擦学性能分析 | 第62-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 5 结论 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-76页 |
| 作者简历 | 第76页 |
