光学零件振动辅助抛光关键技术研究
| 摘要 | 第9-10页 |
| ABSTRACT | 第10-11页 |
| 第一章 绪论 | 第12-21页 |
| 1.1 课题来源与意义 | 第12-13页 |
| 1.1.1 课题来源 | 第12页 |
| 1.1.2 课题研究的背景与意义 | 第12-13页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第13-20页 |
| 1.2.1 振动辅助磨削及研磨加工 | 第13-15页 |
| 1.2.2 振动辅助抛光加工方式 | 第15-18页 |
| 1.2.3 光学零件振动辅助抛光加工工艺 | 第18-20页 |
| 1.3 论文的主要内容 | 第20-21页 |
| 第二章 光学零件振动辅助抛光加工机理 | 第21-31页 |
| 2.1 振动辅助抛光原理 | 第21-26页 |
| 2.1.1 单颗磨粒加工工件数学模型 | 第22-24页 |
| 2.1.2 有效抛光颗粒数分析 | 第24-26页 |
| 2.2 磨粒冲击工件模型仿真分析 | 第26-29页 |
| 2.2.1 仿真模型建立 | 第26-27页 |
| 2.2.2 仿真结果 | 第27-28页 |
| 2.2.3 仿真参数优化 | 第28-29页 |
| 2.3 本章小结 | 第29-31页 |
| 第三章 光学零件振动辅助抛光材料去除效率实验研究 | 第31-39页 |
| 3.1 振动辅助抛光实验平台 | 第31-32页 |
| 3.2 振动辅助抛光去除效率实验 | 第32-35页 |
| 3.2.1 轴向振动辅助抛光材料去除实验 | 第32-33页 |
| 3.2.2 不同工艺条件对去除效率的影响 | 第33-35页 |
| 3.3 材料去除扫描加工实验 | 第35-38页 |
| 3.3.1 加工效率验证 | 第35-36页 |
| 3.3.2 工艺优化实验 | 第36-38页 |
| 3.4 本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 光学零件振动辅助抛光表面完整性实验研究 | 第39-48页 |
| 4.1 非接触式轴向振动辅助抛光表面质量提升研究 | 第39-42页 |
| 4.1.1 非接触式振动抛光对表面质量提升效果 | 第39-40页 |
| 4.1.2 工艺参数改变对实验效果的影响 | 第40-42页 |
| 4.2 轴向振动辅助抛光损伤控制研究 | 第42-46页 |
| 4.2.1 抛光亚表面损伤检测及产生机理 | 第42页 |
| 4.2.2 轴向振动辅助抛光去损伤机理 | 第42-44页 |
| 4.2.3 加工表面损伤改善情况 | 第44-46页 |
| 4.3 本章小结 | 第46-48页 |
| 第五章 光学零件振动辅助抛光中高频误差控制研究 | 第48-59页 |
| 5.1 抑制中高频误差的理论分析 | 第48-53页 |
| 5.1.1 径向振动辅助对光栅扫描路径的影响 | 第48-51页 |
| 5.1.2 径向辅助振动对去除效率的影响 | 第51页 |
| 5.1.3 轴向振动辅助抛光抑制中高频误差 | 第51-53页 |
| 5.2 振动辅助抛光抑制中高频误差实验 | 第53-58页 |
| 5.2.1 中高频误差抑制效果 | 第53-56页 |
| 5.2.2 不同频段中高频误差工艺参数优化 | 第56-58页 |
| 5.3 本章小结 | 第58-59页 |
| 第六章 总结与展望 | 第59-62页 |
| 6.1 全文总结 | 第59-60页 |
| 6.2 研究展望 | 第60-62页 |
| 致谢 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 作者在学期间所得学术成果 | 第68页 |
| 1.发表的论文 | 第68页 |
