摘要 | 第3-4页 |
ABSTRACT | 第4-5页 |
第一章 绪论 | 第8-12页 |
1.1 前言 | 第8-9页 |
1.2 研究背景及进展 | 第9-11页 |
1.3 本论文研究意义及主要内容 | 第11-12页 |
第二章 实验原理 | 第12-30页 |
2.1 量子点的简介 | 第12-16页 |
2.1.1 量子点的特性 | 第13-15页 |
2.1.2 量子点的应用 | 第15-16页 |
2.2 量子点发光二极管的简介 | 第16-26页 |
2.2.1 量子点 LED 的几种类型 | 第18-22页 |
2.2.2 量子点 LED 的工作原理 | 第22-24页 |
2.2.3 量子点 LED 的基本参数 | 第24-26页 |
2.3 全无机量子点发光二极管的制备方法 | 第26-30页 |
2.3.1 磁控溅射法 | 第26-27页 |
2.3.2 真空蒸镀法 | 第27-28页 |
2.3.3 化学气相沉积 | 第28-29页 |
2.3.4 溶胶-凝胶法 | 第29-30页 |
第三章 实验过程及特性表征 | 第30-40页 |
3.1 实验试剂 | 第30页 |
3.2 实验仪器及测试仪器 | 第30页 |
3.3 全无机量子点 LED 的制备流程 | 第30-33页 |
3.4 电荷传输层性能表征手段 | 第33-37页 |
3.4.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第33-34页 |
3.4.2 透射电子显微镜(TEM) | 第34-35页 |
3.4.3 原子力显微镜(AFM) | 第35页 |
3.4.4 X 射线衍射(XRD) | 第35-36页 |
3.4.5 紫外-可见吸收及透射光谱 | 第36-37页 |
3.5 器件的性能表征手段 | 第37-40页 |
3.5.1 I-V 特性测试 | 第37页 |
3.5.2 光致发光谱测试 | 第37-39页 |
3.5.3 电致发光谱测试 | 第39-40页 |
第四章 结果讨论与分析 | 第40-58页 |
4.1 电荷传输层的性能分析 | 第41-47页 |
4.1.1 空穴传输层 NiO 薄膜的性能表征 | 第41-44页 |
4.1.2 量子点发光层的特性 | 第44-46页 |
4.1.3 电子传输层 ZnO 薄膜的性能表征 | 第46-47页 |
4.2 全无机量子点发光二极管光电特性分析 | 第47-52页 |
4.2.1 荧光波长 585 nm 的量子点作发光层的器件性能分析 | 第48-49页 |
4.2.2 荧光波长 605 nm 的量子点作发光层的器件性能分析 | 第49-52页 |
4.3 全无机量子点 LED 器件性能的优化 | 第52-58页 |
4.3.1 空穴注入层 MoO3的制备及性能测试 | 第52-53页 |
4.3.2 不同厚度 MoO3对器件 I-V 性能的影响 | 第53-54页 |
4.3.3 MoO3缓冲层的厚度对器件电致发光性能的影响 | 第54-58页 |
第五章 结论与未来展望 | 第58-59页 |
5.1 结论 | 第58页 |
5.2 未来展望 | 第58-59页 |
参考文献 | 第59-64页 |
发表论文和参加科研情况 | 第64-65页 |
致谢 | 第65页 |