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共溅射法制备Zn1-xCrxO薄膜及磁性研究

摘要第1-6页
Abstract第6-9页
第一章 绪论第9-15页
   ·引言第9-10页
   ·稀磁半导体研究进展第10页
   ·ZnO 基稀磁半导体研究概述第10-13页
     ·ZnO 简介第10-12页
     ·ZnO 基稀磁半导体研究进展第12-13页
   ·选题依据和主要研究内容第13-15页
     ·选题依据第13页
     ·主要研究内容第13-15页
第二章 Zn_(1-x)Cr_xO 薄膜样品的制备、表征及磁性测量第15-22页
   ·薄膜样品的制备第15-19页
     ·实验设备第15-17页
     ·衬底的清洗第17页
     ·真空室的清洁第17页
     ·实验过程第17-18页
     ·实验参数第18-19页
   ·样品的结构、成份表征第19-20页
     ·X 射线衍射(XRD)第19-20页
     ·扫描电子显微镜(SEM)第20页
     ·X 射线光电子能谱(XPS)第20页
   ·磁性测量第20-21页
   ·本章小结第21-22页
第三章 实验结果分析第22-42页
   ·不同Cr 含量的Zn_(1-x)Cr_xO 薄膜样品的结构及磁性分析第22-34页
     ·EDS 成份及含量分析第22-23页
     ·XRD 结构分析第23-25页
     ·SEM 形貌分析第25-26页
     ·XPS 价态分析第26-29页
     ·薄膜样品磁性分析第29-34页
   ·不同氩氧比的Zn_(1-x)Cr_xO 薄膜样品的结构及磁性分析第34-38页
     ·XRD 结构分析第34-35页
     ·SEM 形貌分析第35-36页
     ·薄膜样品磁性分析第36-38页
   ·退火气氛对Zn_(1-x)Cr_xO 薄膜样品的结构及磁性影响第38-40页
     ·XRD 结构分析第38-39页
     ·薄膜样品磁性分析第39-40页
   ·本章小结第40-42页
第四章 结论与展望第42-44页
   ·结论第42-43页
   ·不足与展望第43-44页
参考文献第44-48页
发表论文和科研情况说明第48-49页
致谢第49-50页

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