| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-16页 |
| ·PZT 铁电陶瓷基本结构 | 第9页 |
| ·PZT 二元系相图 | 第9-10页 |
| ·准同型相界（MPB） | 第10页 |
| ·PZT 的应用 | 第10-12页 |
| ·铁电随机存取存储器 | 第10-11页 |
| ·动态随机存储器 | 第11页 |
| ·铁电场效应晶体管 | 第11页 |
| ·其他光学器件 | 第11-12页 |
| ·PZT 的增韧研究 | 第12-14页 |
| ·增韧方式 | 第12-13页 |
| ·PZT 增韧的研究现状 | 第13-14页 |
| ·选题的意义及研究内容 | 第14-16页 |
| ·本课题意义 | 第14-15页 |
| ·本课题研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 实验过程 | 第16-24页 |
| ·模具的设计 | 第16-17页 |
| ·试样的制备 | 第17-19页 |
| ·基体与靶材选择 | 第17页 |
| ·基体表面预处理 | 第17页 |
| ·薄膜溅射工艺参数选择 | 第17-18页 |
| ·磁控溅射设备 | 第18页 |
| ·试样的晶化工艺 | 第18-19页 |
| ·试样显微组织结构研究 | 第19-20页 |
| ·试样的力学性能测试 | 第20-22页 |
| ·试样异质间结合性能测试 | 第20-21页 |
| ·试样的断裂韧性测定 | 第21页 |
| ·试样的阻尼性能测定 | 第21-22页 |
| ·试样的介电性能测试 | 第22-24页 |
| ·试样的介电常数测试 | 第22页 |
| ·试样介电损耗tgδ测试 | 第22页 |
| ·试样压电常数d_(33)测试 | 第22-23页 |
| ·试样机电耦合系数KP测试 | 第23-24页 |
| 第三章 实验结果与讨论 | 第24-44页 |
| ·晶化温度对试样显微组织结构影响 | 第24-31页 |
| ·试样晶化温度的确定 | 第24-28页 |
| ·试样显微组织结构分析 | 第28-31页 |
| ·试样的性能分析 | 第31-44页 |
| ·NiTi SMA 薄膜与基体PZT 之间结合性能分析 | 第31-33页 |
| ·试样的断裂韧性分析 | 第33-35页 |
| ·试样的阻尼性能分析 | 第35-37页 |
| ·试样的介电性能测试分析 | 第37-44页 |
| 第四章 结论 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-49页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |