| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-15页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2 研究意义 | 第11-12页 |
| 1.3 研究现状 | 第12-14页 |
| 1.4 论文主要研究内容 | 第14-15页 |
| 第2章 ICP 激发源简介 | 第15-22页 |
| 2.1 等离子体的基本概念 | 第15页 |
| 2.2 常规 ICP 激发源等离子体炬的形成 | 第15-17页 |
| 2.3 微型 ICP 激发源的激发机理 | 第17-22页 |
| 2.3.1 微型 ICP 激发源的激发特点 | 第17页 |
| 2.3.2 激发源的组成部件 | 第17-19页 |
| 2.3.3 工作原理 | 第19-22页 |
| 第3章 微型 ICP 光谱仪对样品激发过程 | 第22-26页 |
| 3.1 实验装置 | 第22-24页 |
| 3.2 实验条件及步骤 | 第24-25页 |
| 3.2.1 实验准备 | 第24页 |
| 3.2.2 操作步骤 | 第24-25页 |
| 3.3 本章小结 | 第25-26页 |
| 第4章 微型 ICP 激发源对气体样品的激发研究 | 第26-33页 |
| 4.1 甲烷气体的激发试验 | 第26-28页 |
| 4.2 氮气的激发测试 | 第28-30页 |
| 4.3 氨气的激发测试 | 第30-32页 |
| 4.4 本章小结 | 第32-33页 |
| 第5章 微型 ICP 激发源工作参数及优化 | 第33-46页 |
| 5.1 样品气体谱线强度与射频功率、气压的关系 | 第33-39页 |
| 5.1.1 甲烷谱线强度随射频功率和工作气压的变化 | 第33-36页 |
| 5.1.2 氨气谱线强度随射频功率和工作气压的变化 | 第36-39页 |
| 5.2 放电室电子温度与射频功率、气压的关系 | 第39-44页 |
| 5.2.1 电子温度随射频功率变化的趋势图 | 第41-42页 |
| 5.2.2 电子温度随工作气压变化的趋势 | 第42-44页 |
| 5.3 本章小结 | 第44-46页 |
| 第6章 结论与展望 | 第46-49页 |
| 6.1 结论 | 第46-47页 |
| 6.2 有待解决的问题 | 第47页 |
| 6.3 展望 | 第47-49页 |
| 参考文献 | 第49-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 攻读学位期间取得的科研成果 | 第54页 |