一种新型高发射性能扩散阴极的实现与验证
摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
目录 | 第9-11页 |
第一章 绪论 | 第11-17页 |
1.1 研究背景与意义 | 第11-12页 |
1.2 本课题的研究进展 | 第12-15页 |
1.3 本课题的主要研究内容 | 第15-17页 |
第二章 阴极的性能评估 | 第17-27页 |
2.1 阴极的发射性能 | 第17-21页 |
2.1.1 阴极电子发射性能的评估方法 | 第17-19页 |
2.1.2 阴极发射性能的测试装置 | 第19-20页 |
2.1.3 阴极温度的测量 | 第20-21页 |
2.1.4 阴极发射性能的测试方法 | 第21页 |
2.2 阴极的蒸发特性 | 第21-24页 |
2.2.1 阴极蒸发在阴极实际应用中的影响 | 第21-23页 |
2.2.2 阴极蒸发特性测试 | 第23-24页 |
2.3 阴极寿命及其评估 | 第24-25页 |
2.4 小结 | 第25-27页 |
第三章 新阴极的制备及表征 | 第27-53页 |
3.1 新阴极的制备 | 第27-30页 |
3.1.1 阴极基体制备工艺流程 | 第27-30页 |
3.1.2 阴极组件的制备 | 第30页 |
3.2 新阴极的测试 | 第30-46页 |
3.2.1 发射性能测试及比较 | 第30-37页 |
3.2.2 新阴极的蒸发特性 | 第37-38页 |
3.2.3 新阴极的寿命试验 | 第38-46页 |
3.3 新阴极的表面分析 | 第46-48页 |
3.4 新阴极的性能分析与讨论 | 第48-50页 |
3.5 小结 | 第50-53页 |
第四章 新阴极的实际应用 | 第53-59页 |
4.1 太赫兹用带状注阴极的制备 | 第53-55页 |
4.1.1 阴极设计 | 第53-54页 |
4.1.2 阴极覆膜设备及规范 | 第54-55页 |
4.1.3 太赫兹用带状注阴极覆膜工艺 | 第55页 |
4.2 太赫兹用带状注阴极的制备及测试 | 第55-57页 |
4.2.1 太赫兹用带状注阴极的制备流程 | 第55-56页 |
4.2.2 太赫兹用带状注阴极的测试及分析 | 第56-57页 |
4.3 小结 | 第57-59页 |
第五章 结论与展望 | 第59-63页 |
参考文献 | 第63-67页 |
致谢 | 第67-69页 |
个人简历、在学期间发表的论文与研究成果 | 第69页 |