| 中文摘要 | 第8-11页 |
| Abstract | 第11-13页 |
| 第一章 绪论 | 第14-52页 |
| §1.1 四硫富瓦烯的性质及其研究进展 | 第14-15页 |
| §1.2 TTF衍生物的应用 | 第15-43页 |
| 1.2.1 TTF衍生物在有机导体和超导体中的应用 | 第15-18页 |
| 1.2.2 TTF衍生物在化学传感器中的应用 | 第18-20页 |
| 1.2.3 TTF衍生物在有机场效应管(OFET)中的应用 | 第20-21页 |
| 1.2.4 TTF衍生物在非线性光学材料(NLO)中的应用 | 第21-22页 |
| 1.2.5 TTF衍生物在分子开关中的应用 | 第22-23页 |
| 1.2.6 含有TTF结构单元的磁性导体/磁性半导体 | 第23-43页 |
| 1.2.6.1 阴阳离子盐型 | 第25-27页 |
| 1.2.6.2 共价键桥联型 | 第27-43页 |
| §1.3 本论文的选题依据和研究目标 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-52页 |
| 第二章 基于四硫富瓦烯席夫碱配体的氰基桥连单分子磁体 | 第52-69页 |
| §2.1 前言 | 第52-53页 |
| §2.2 实验部分 | 第53-56页 |
| 2.2.1 实验试剂及测试方法 | 第53页 |
| 2.2.2 合成部分 | 第53-54页 |
| 2.2.3 X—射线单晶结构测定 | 第54-56页 |
| §2.3 结果与讨论 | 第56-64页 |
| 2.3.1 晶体结构讨论 | 第56-59页 |
| 2.3.2 电化学性质 | 第59-61页 |
| 2.3.3 磁学性质 | 第61-64页 |
| §2.4 本章小结 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 第三章 铁二氰构筑基块桥连的基于π共轭四硫富瓦烯配体的异金属手性链 | 第69-89页 |
| §3.1 前言 | 第69-70页 |
| §3.2 实验部分 | 第70-75页 |
| 3.2.1 常规方法 | 第70-71页 |
| 3.2.2 合成部分 | 第71-72页 |
| 3.2.3 X—射线单晶结构测定 | 第72-75页 |
| §3.3 结果与讨论 | 第75-84页 |
| 3.3.1 合成与光谱性质 | 第75-76页 |
| 3.3.2 晶体结构讨论 | 第76-79页 |
| 3.3.3 电化学性质 | 第79-82页 |
| 3.3.4 磁学性质 | 第82-84页 |
| §3.4 本章小结 | 第84-85页 |
| 参考文献 | 第85-89页 |
| 第四章 基于四硫富瓦烯草酸配体的异金属磁性配合物 | 第89-107页 |
| §4.1 前言 | 第89-90页 |
| §4.2 实验部分 | 第90-94页 |
| 4.2.1 实验试剂及测试方法 | 第90页 |
| 4.2.2 合成部分 | 第90-91页 |
| 4.2.3 X—射线单晶结构测定 | 第91-94页 |
| §4.3 结果与讨论 | 第94-103页 |
| 4.3.1 合成与表征 | 第94页 |
| 4.3.2 晶体结构讨论 | 第94-98页 |
| 4.3.3 电化学性质 | 第98-101页 |
| 4.3.4 磁学性质 | 第101-103页 |
| §4.4 本章小结 | 第103页 |
| 参考文献 | 第103-107页 |
| 第五章 基于π共轭四硫富瓦烯三氮唑配体的五核簇合物的合成、性质及其自组装性能 | 第107-127页 |
| §5.1 前言 | 第107-108页 |
| §5.2 实验部分 | 第108-111页 |
| 5.2.1 常规方法 | 第108页 |
| 5.2.2 合成部分 | 第108-109页 |
| 5.2.3 X—射线单晶结构测定 | 第109-111页 |
| §5.3 结果与讨论 | 第111-122页 |
| 5.3.1 合成与表征 | 第111页 |
| 5.3.2 晶体结构讨论 | 第111-113页 |
| 5.3.3 紫外吸收光谱 | 第113-114页 |
| 5.3.4 电化学性质 | 第114-116页 |
| 5.3.5 光谱电化学性质 | 第116-119页 |
| 5.3.6 磁学性质 | 第119-121页 |
| 5.3.7 扫描隧道显微镜(STM)研究 | 第121-122页 |
| §5.4 本章小结 | 第122-123页 |
| 参考文献 | 第123-127页 |
| 第六章 基于四硫富瓦烯席夫碱配体的铁自旋交叉化合物的合成、磁性及其荧光性质 | 第127-144页 |
| §6.1 前言 | 第127-128页 |
| §6.2 实验部分 | 第128-132页 |
| 6.2.1 常规方法 | 第128页 |
| 6.2.2 合成部分 | 第128-129页 |
| 6.2.3 X—射线单晶结构测定 | 第129-132页 |
| §6.3 结果与讨论 | 第132-141页 |
| 6.3.1 合成与表征 | 第132-133页 |
| 6.3.2 晶体结构讨论 | 第133-137页 |
| 6.3.3 磁学性质 | 第137-138页 |
| 6.3.4 荧光性质 | 第138-141页 |
| §6.4 本章小结 | 第141-142页 |
| 参考文献 | 第142-144页 |
| 全文总结 | 第144-147页 |
| 攻读博士期间已发表和待发表的论文和专利目录 | 第147-149页 |
| 致谢 | 第149-151页 |
