| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| 引言 | 第9页 |
| ·磁化强度动力学在磁性材料研究中的意义 | 第9-14页 |
| ·磁化强度的动态响应 | 第9-12页 |
| ·高频磁性材料 | 第12-13页 |
| ·磁随机存储器 | 第13-14页 |
| ·磁化强度动力学的研究方法 | 第14-16页 |
| ·谐振腔铁磁共振 | 第14-15页 |
| ·矢量网络分析仪（VNA） | 第15页 |
| ·时间分辨的磁光克尔效应 | 第15-16页 |
| ·自旋整流效应的基本原理与应用 | 第16-19页 |
| ·自旋整流效应的基本原理 | 第16-17页 |
| ·自旋整流效应在磁化强度动力学中的应用 | 第17-18页 |
| ·自旋整流在微波成像中的应用 | 第18-19页 |
| ·自旋整流效应遇到的困难与挑战 | 第19页 |
| 参考文献 | 第19-21页 |
| 第二章 自旋整流中自旋的相关输运与器件制备 | 第21-30页 |
| 引言 | 第21页 |
| ·自旋整流中自旋的相关输运 | 第21-24页 |
| ·各向异性磁电阻（AMR） | 第21-22页 |
| ·平面霍尔磁效应（PHE） | 第22页 |
| ·反常霍尔效应（AHE） | 第22-23页 |
| ·广义欧姆定律 | 第23-24页 |
| ·器件的制备与电测量 | 第24-29页 |
| ·分子束外延（MBE） | 第24-25页 |
| ·磁控溅射制备薄膜 | 第25-26页 |
| ·微纳加工技术 | 第26-28页 |
| ·电测量系统 | 第28-29页 |
| ·本章小结 | 第29页 |
| 参考文献 | 第29-30页 |
| 第三章 基于自旋整流的磁化强度动力学理论 | 第30-49页 |
| 引言 | 第30页 |
| ·LLG方程 | 第30页 |
| ·面内磁化强度动力学理论 | 第30-35页 |
| ·面内无穷大样品本征共振频率 | 第30-32页 |
| ·无阻尼模型下磁化率张量 | 第32-34页 |
| ·有阻尼模型下磁化率张量 | 第34-35页 |
| ·面内自旋整流表达式 | 第35-40页 |
| ·面内AMR自旋整流表达式 | 第37-38页 |
| ·面内PHE自旋整流表达式 | 第38-39页 |
| ·面内AHE自旋整流表达式 | 第39页 |
| ·面内自旋整流理论小结 | 第39-40页 |
| ·垂直位型磁化强度动力学理论 | 第40-43页 |
| ·垂直位型下无穷大样品本征共振频率 | 第40-41页 |
| ·垂直位型下磁化率张量 | 第41-43页 |
| ·垂直情况下自旋整流表达式 | 第43-46页 |
| ·垂直位型AMR自旋整流表达式 | 第44页 |
| ·垂直位型PHE自旋整流表达式 | 第44-45页 |
| ·垂直位型AHE自旋整流表达式 | 第45页 |
| ·垂直位型自旋整流理论小结 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-49页 |
| 第四章 单层铁磁薄膜的自旋整流机理和动态性能研究 | 第49-60页 |
| 引言 | 第49页 |
| ·实验设计与样品介绍 | 第49-51页 |
| ·实验设计思路 | 第49-51页 |
| ·材料的选取 | 第51页 |
| ·实验测试方法简介 | 第51-52页 |
| ·铁单晶长条样品的整流机制 | 第52-53页 |
| ·铁单晶薄膜动态参量的确定 | 第53-57页 |
| ·厚度对各向异性的影响 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-60页 |
| 第五章 铁磁/非磁性金属双层膜的自旋整流机理和动态性能的研究 | 第60-71页 |
| 引言 | 第60页 |
| ·实验设计与样品介绍 | 第60-61页 |
| ·实验设计思路 | 第60-61页 |
| ·材料的选取 | 第61页 |
| ·介电环境以及自旋转移矩对整流信号强度的影响 | 第61-62页 |
| ·自旋转移矩(STT)诱导的铁磁共振 | 第62-65页 |
| ·直流STT电对FMR线宽的影响 | 第65-66页 |
| ·垂直位型下STT-FMR | 第66-69页 |
| ·本章小结 | 第69页 |
| 参考文献 | 第69-71页 |
| 第六章 结束语 | 第71-73页 |
| 硕士期间研究成果 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74页 |