摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
第1章 绪论 | 第10-18页 |
·课题研究的背景 | 第10页 |
·超精密平面研抛技术概论 | 第10-13页 |
·超精密加工的定义 | 第10-11页 |
·国内外超精密加工的发展现状 | 第11-12页 |
·化学机械抛光机理 | 第12-13页 |
·CMP 系统中影响抛光速率和表面质量的因素 | 第13页 |
·双面研抛机国内外发展现状 | 第13-15页 |
·国外发展现状 | 第13-14页 |
·国内发展现状 | 第14-15页 |
·虚拟样机技术 | 第15-16页 |
·主要研究内容 | 第16-18页 |
第2章 研抛机数学模型建立 | 第18-26页 |
·高精度双面研抛机结构简介 | 第18-20页 |
·抛光机构受力分析与数学模型建立 | 第20-25页 |
·行星轮系与工件的运动状态 | 第20-21页 |
·工件的受力分析 | 第21-24页 |
·工件理论运动轨迹推导 | 第24-25页 |
·本章小结 | 第25-26页 |
第3章 虚拟样机模型建立与正确性验证 | 第26-41页 |
·建立双面研抛机虚拟样机模型 | 第26-32页 |
·双面研抛机三维实体模型建立与装配 | 第26-27页 |
·研抛机虚拟样机的建立 | 第27-29页 |
·完善虚拟样机模型 | 第29-32页 |
·验证虚拟样机的正确性 | 第32-40页 |
·虚拟样机运动特性验证 | 第34-36页 |
·虚拟样机受力分析验证 | 第36-38页 |
·虚拟样机运动轨迹验证 | 第38-40页 |
·本章小结 | 第40-41页 |
第4章 系统振动特性与刚柔耦合分析 | 第41-59页 |
·冲击及振动对生产加工的影响 | 第41-42页 |
·速度变化对冲击力的作用 | 第42-48页 |
·主传动系统刚柔耦合分析 | 第48-58页 |
·主传动系统柔性体建立 | 第48-49页 |
·模态中性文件导入 ADAMS | 第49-51页 |
·运用 ADAMS/Vibration 模块分析系统振动特性 | 第51-58页 |
·本章小结 | 第58-59页 |
第5章 双面研抛机运动轨迹分析与工艺参数优化 | 第59-80页 |
·双面研抛机工艺参数优化评价指标 | 第59页 |
·双面研抛机抛光去除率与抛光均匀性分析 | 第59-61页 |
·抛光去除率分析 | 第59-60页 |
·抛光均匀性分析 | 第60-61页 |
·工件运动轨迹的仿真分析 | 第61-75页 |
·工件对地运动轨迹分析 | 第61-70页 |
·工件对抛光盘运动轨迹分析 | 第70-75页 |
·抛光工艺参数优化 | 第75-79页 |
·抛光工艺参数优化的评价指标 | 第75-76页 |
·选取最佳工艺参数 | 第76-78页 |
·工艺参数优化结论 | 第78-79页 |
·本章小结 | 第79-80页 |
结论 | 第80-81页 |
参考文献 | 第81-85页 |
攻读学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第85-86页 |
致谢 | 第86-87页 |
作者简介 | 第87页 |