| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-21页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·半导激光器钝化研究进展 | 第8-11页 |
| ·InP表面硫钝化研究进展 | 第11-15页 |
| ·ALD法表面干法钝化研究进展 | 第15-17页 |
| ·飞秒激光诱导半导体表面纳米结构研究进展 | 第17-19页 |
| ·本论文的主要工作 | 第19-21页 |
| 第二章 InP表面钝化技术理论研究 | 第21-31页 |
| ·InP材料性质 | 第21-23页 |
| ·半导体表面态及其对半导体器件的影响 | 第23-25页 |
| ·半导体材料表面钝化介绍 | 第25-26页 |
| ·InP表面钝化技术 | 第26-29页 |
| ·飞秒激光诱导半导体表面纳米结构介绍 | 第29-31页 |
| 第三章 InP湿法硫钝化实验及结果分析 | 第31-42页 |
| ·引言 | 第31页 |
| ·硫钝化溶液的选择 | 第31-32页 |
| ·实验过程 | 第32页 |
| ·仪器介绍 | 第32-34页 |
| ·实验结果及分析 | 第34-41页 |
| ·结论 | 第41-42页 |
| 第四章 氧化铝薄膜提高硫钝化InP材料的光学稳定性研究 | 第42-48页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·实验过程 | 第42-43页 |
| ·结果与讨论 | 第43-46页 |
| ·结论 | 第46-48页 |
| 第五章 飞秒激光诱导InP表面纳米结构及光学性质研究 | 第48-54页 |
| ·引言 | 第48页 |
| ·实验过程 | 第48-50页 |
| ·实验结果与讨论 | 第50-53页 |
| ·实验结论 | 第53-54页 |
| 第六章 结论与展望 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-59页 |
| 硕士期间的学术成果 | 第59页 |