| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-18页 |
| 第1章 绪论 | 第18-44页 |
| ·引言 | 第18-19页 |
| ·低地球轨道空间环境与原子氧侵蚀效应 | 第19-23页 |
| ·原子氧与聚合物及防护涂层反应的研究方法 | 第23-26页 |
| ·空间飞行试验 | 第23-24页 |
| ·地面模拟试验 | 第24页 |
| ·计算模型及数值模拟 | 第24-26页 |
| ·原子氧辐照地面模拟器研究 | 第26-28页 |
| ·原子氧与聚合物Kapton的反应机理 | 第28-30页 |
| ·Kapton表面防护涂层的种类和制备方法 | 第30-36页 |
| ·防护涂层的种类及特点 | 第30-32页 |
| ·防护涂层的制备方法 | 第32-36页 |
| ·介电材料表面等离子体注入/沉积的研究 | 第36-43页 |
| ·解析解模型 | 第37-38页 |
| ·一维模型 | 第38-40页 |
| ·二维模型 | 第40-43页 |
| ·本文主要研究内容 | 第43-44页 |
| 第2章 试验材料和涂层制备及分析方法 | 第44-54页 |
| ·试验材料 | 第44-45页 |
| ·实验设备与原理 | 第45-50页 |
| ·实验设备 | 第45-46页 |
| ·脉冲阴极弧等离子体注入/沉积 | 第46-48页 |
| ·实验工艺 | 第48-50页 |
| ·分析方法 | 第50-54页 |
| ·表面形貌观察 | 第50-51页 |
| ·背散射（RBS）分析 | 第51页 |
| ·X-射线光电子能谱（XPS）分析 | 第51-52页 |
| ·膜层力学性能评定 | 第52-53页 |
| ·光学性能测试 | 第53页 |
| ·抗原子氧侵蚀性能测试 | 第53页 |
| ·质量损失测量 | 第53-54页 |
| 第3章 原子氧辐照地面模拟器的研制 | 第54-62页 |
| ·原子氧辐照地面模拟器的工作原理 | 第54-55页 |
| ·辐照过程中的侵蚀作用 | 第55-57页 |
| ·原子氧辐照地面模拟器性能评价 | 第57-58页 |
| ·质量损失线性化规律的验证 | 第57页 |
| ·等效原子氧通量的空间分布评定 | 第57-58页 |
| ·原子氧侵蚀形貌 | 第58-60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 第4章 原子氧侵蚀Monte Carlo数值模拟 | 第62-78页 |
| ·原子氧侵蚀效应Monte Carlo 模型的建立 | 第62-68页 |
| ·数值模拟的方法和原理 | 第64-65页 |
| ·程序中随机数的产生 | 第65-66页 |
| ·模拟参量的确定 | 第66-67页 |
| ·程序流程图 | 第67-68页 |
| ·原子氧侵蚀结果与分析 | 第68-76页 |
| ·模拟结果与空间飞行试验结果对照 | 第68页 |
| ·原子氧能量对侵蚀的影响 | 第68-69页 |
| ·裂纹的原子氧侵蚀效应 | 第69-70页 |
| ·原子氧侵蚀的缺陷密度效应 | 第70-73页 |
| ·掺杂对原子氧侵蚀的影响 | 第73-76页 |
| ·本章小结 | 第76-78页 |
| 第5章 介电材料等离子体注入PIC数值模拟 | 第78-109页 |
| ·聚合物表面离子注入PIC模型的建立 | 第78-86页 |
| ·聚合物表面等离子体离子注入的动力学特性 | 第86-91页 |
| ·薄聚合物表面的离子注入 | 第86-89页 |
| ·聚合物的物理属性对离子注入能量和剂量的影响 | 第89-91页 |
| ·辅助栅网对栅网内部电势的影响 | 第91-94页 |
| ·栅网辅助聚合物表面等离子体注入 | 第94-100页 |
| ·离子运动过程 | 第95-96页 |
| ·阴影效应随时间的变化规律 | 第96-97页 |
| ·介电材料表面电位的演化规律 | 第97-98页 |
| ·栅网对二次电子的抑制 | 第98-99页 |
| ·离子注入能量 | 第99-100页 |
| ·栅网辅助注入阴影效应的优化 | 第100-107页 |
| ·栅网高度对阴影效应的影响 | 第100-103页 |
| ·栅网间隙比对阴影效应的影响 | 第103-105页 |
| ·栅网辅助离子注入效应的验证 | 第105-107页 |
| ·本章小结 | 第107-109页 |
| 第6章 氧化铝涂层的制备及其性能 | 第109-126页 |
| ·厚度对涂层性能的影响 | 第109-111页 |
| ·注入能量对涂层性能的影响 | 第111-118页 |
| ·氧化铝涂层的成分和厚度分析 | 第111-114页 |
| ·注入能量对膜基结合力的影响 | 第114-115页 |
| ·注入能量对涂层光学性能的影响 | 第115-117页 |
| ·注入能量对抗原子氧侵蚀性能的影响 | 第117-118页 |
| ·射频功率对氧化铝涂层性能的影响 | 第118-125页 |
| ·不同环境下成膜过程 | 第119-120页 |
| ·涂层成分和厚度分析 | 第120-121页 |
| ·射频功率对膜基结合力的影响 | 第121-123页 |
| ·射频功率对涂层光学性能的影响 | 第123页 |
| ·射频功率对涂层抗原子氧性能的影响 | 第123-125页 |
| ·本章小结 | 第125-126页 |
| 第7章 氧化铝/氧化硅膜层性能及原子氧侵蚀行为 | 第126-150页 |
| ·复合涂层的必要性 | 第126-129页 |
| ·复合涂层的性能 | 第129-135页 |
| ·复合涂层膜基结合力 | 第129-131页 |
| ·复合涂层的光学性能 | 第131-132页 |
| ·复合涂层抗原子氧侵蚀性能 | 第132-135页 |
| ·复合涂层成分深度剖析 | 第135-141页 |
| ·复合涂层原子氧侵蚀行为 | 第141-146页 |
| ·原子氧侵蚀对复合涂层成分的影响 | 第141-142页 |
| ·原子氧侵蚀对复合涂层结合态的影响 | 第142-146页 |
| ·原子氧侵蚀过程分析 | 第146-148页 |
| ·本章小结 | 第148-150页 |
| 结论 | 第150-152页 |
| 参考文献 | 第152-173页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第173-177页 |
| 致谢 | 第177-178页 |
| 个人简历 | 第178页 |