关于高功率脉冲磁控溅射制备ZnO薄膜的研究

摘要	第3-5页
ABSTRACT	第5-6页
第一章 绪论	第9-31页
1.1 引言	第9页
1.2 ZnO的基本性质及应用	第9-10页
1.3 ZnO的主要制备方法	第10-18页
1.4 p-ZnO制备方法和性能影响因素	第18-22页
1.5 高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）	第22-30页
1.6 本论文研究的目的、意义以及主要内容	第30-31页
第二章 ZnO薄膜的制备和表征	第31-36页
2.1 实验材料及基底预处理方法	第31页
2.2 镀膜设备及工艺参数	第31-33页
2.3 表征设备原理	第33-34页
2.4 等离子体参数测量	第34-36页
第三章 HiPIMS实验参数对放电特性的影响	第36-42页
第四章 ZnO薄膜的结构及其性能研究	第42-70页
4.1 n-ZnO薄膜的制备及工艺参数的影响	第42-57页
4.2 p-ZnO薄膜的制备及工艺参数的影响	第57-70页
第五章 结论和展望	第70-72页
5.1 本文的主要研究成果与结论	第70-71页
5.2 创新点	第71页
5.3 工作展望	第71-72页
致谢	第72-73页
参考文献	第73-84页
硕士期间发表的学术论文	第84页