光学表面亚表层损伤表征技术研究
摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-8页 |
1 绪论 | 第8-17页 |
·课题研究背景和意义 | 第8-10页 |
·国内外研究现状 | 第10-15页 |
·破坏性检测方法 | 第10-12页 |
·非破坏性检测方法 | 第12-15页 |
·本课题研究的主要内容 | 第15-17页 |
2 亚表层损伤模型及产生机理 | 第17-22页 |
·光学材料性能 | 第17-18页 |
·光学加工工艺 | 第18-19页 |
·亚表层损伤表现形式及检测方法 | 第19-21页 |
·损伤表现形式 | 第19-20页 |
·检测方法 | 第20-21页 |
·本章小结 | 第21-22页 |
3 光学表面亚表层损伤检测系统介绍 | 第22-40页 |
·激光扫描共聚焦显微系统成像特性分析 | 第22-26页 |
·共聚焦显微系统的分辨能力 | 第23-24页 |
·光束质量对激光共聚焦显微系统的影响 | 第24-26页 |
·激光扫描共聚焦显微系统搭建和测试 | 第26-34页 |
·一维扫描平台介绍 | 第26-28页 |
·二维扫描平台 | 第28-34页 |
·光学表面亚表层损伤二维测量及结果分析 | 第34-39页 |
·表面粗糙度测量及分析 | 第34-37页 |
·亚表层损伤深度测量及分析 | 第37-39页 |
·本章小结 | 第39-40页 |
4 三维扫描实验构建及亚表层损伤测量 | 第40-50页 |
·平面扫描系统 | 第40-41页 |
·目标扫描方式 | 第40页 |
·扫描振镜方式 | 第40-41页 |
·Nipkow盘扫描方式 | 第41页 |
·轴向扫描系统 | 第41-43页 |
·利用不同波长扫描方式 | 第41-42页 |
·压电陶瓷扫描方式 | 第42-43页 |
·新型扫描系统 | 第43-44页 |
·控制软件 | 第44-45页 |
·三维扫描系统对光学表面亚表层损伤检测 | 第45-49页 |
·断层信息的获得 | 第45-46页 |
·图像处理 | 第46-48页 |
·图像显示及分析 | 第48-49页 |
·本章小结 | 第49-50页 |
5 实验验证 | 第50-56页 |
·HF腐蚀石英玻璃的化学基础和原理 | 第50页 |
·刻蚀时间与刻蚀速率、表面粗糙度的关系 | 第50-53页 |
·刻蚀时间与刻蚀速率的关系 | 第51页 |
·粗糙度和刻蚀时间的关系 | 第51-53页 |
·刻蚀深度的测量 | 第53-55页 |
·本章小结 | 第55-56页 |
6 结论 | 第56-58页 |
·研究内容总结 | 第56页 |
·展望 | 第56-58页 |
参考文献 | 第58-62页 |
攻读硕士期间发表论文 | 第62-63页 |
致谢 | 第63-65页 |