| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-19页 |
| ·课题研究的背景 | 第8页 |
| ·课题研究的目的和意义 | 第8-9页 |
| ·类金刚石薄膜概述 | 第9-13页 |
| ·类金刚石薄膜简介 | 第9页 |
| ·类金刚石薄膜的制备技术 | 第9-11页 |
| ·类金刚石薄膜的性质、应用及其存在的主要问题 | 第11-13页 |
| ·元素掺杂类金刚石薄膜的研究进展 | 第13-17页 |
| ·金属掺杂类金刚石薄膜的研究现状 | 第14页 |
| ·非金属掺杂类金刚石薄膜的研究现状 | 第14-15页 |
| ·硅、锗掺杂类金刚石薄膜的研究现状 | 第15-17页 |
| ·本文的研究内容及技术路线 | 第17-18页 |
| ·本文内容安排 | 第18页 |
| ·本章小结 | 第18-19页 |
| 2 试验设备及薄膜的测试分析方法 | 第19-35页 |
| ·试验设备 | 第19-23页 |
| ·电子束热蒸发设备及原理 | 第19-21页 |
| ·脉冲真空电弧离子源 | 第21-22页 |
| ·离子源设备及原理 | 第22-23页 |
| ·薄膜检测设备 | 第23-26页 |
| ·椭圆偏振仪 | 第23-24页 |
| ·分光光度计 | 第24-25页 |
| ·傅里叶变换红外光谱仪 | 第25页 |
| ·Taly Surf CCI非接触式干涉仪 | 第25-26页 |
| ·薄膜红外光学特性分析方法 | 第26-34页 |
| ·Si薄膜、Ge薄膜的红外光学常数测量 | 第27-31页 |
| ·DLC薄膜的红外光学常数测量 | 第31-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 3 硅、锗和DLC薄膜的制备及性能分析 | 第35-46页 |
| ·Si薄膜的制备及其红外光学特性分析 | 第36-40页 |
| ·Si薄膜的制备工艺 | 第36页 |
| ·试验结果与讨论 | 第36-40页 |
| ·Ge薄膜的制备及其红外光学特性分析 | 第40-44页 |
| ·Ge薄膜的制备工艺 | 第40-41页 |
| ·试验结果与讨论 | 第41-44页 |
| ·DLC薄膜的制备及其红外光学特性分析 | 第44-45页 |
| ·DLC薄膜的制备工艺 | 第44页 |
| ·试验结果与讨论 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 4 Si-DLC和Ge-DLC薄膜的制备及性能分析 | 第46-56页 |
| ·试验设备简介 | 第46-48页 |
| ·应力测试仪 | 第46-47页 |
| ·硬度测试仪 | 第47-48页 |
| ·硅掺杂类金刚石(Si-DLC)薄膜的制备及其特性分析 | 第48-52页 |
| ·不同硅含量Si-DLC薄膜的制备 | 第48-50页 |
| ·Si-DLC薄膜的红外光学特性分析 | 第50-51页 |
| ·Si-DLC薄膜的力学特性分析 | 第51-52页 |
| ·锗掺杂类金刚石(Ge-DLC)薄膜的制备及其特性分析 | 第52-55页 |
| ·不同锗含量Ge-DLC薄膜的制备 | 第52-53页 |
| ·Ge-DLC薄膜的红外光学特性分析 | 第53-54页 |
| ·Ge-DLC薄膜的力学特性分析 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 5 Si-DLC与Ge-DLC薄膜性能的比较 | 第56-62页 |
| ·Si-DLC薄膜与Ge-DLC薄膜光学特性的比较 | 第56-60页 |
| ·Si-DLC薄膜与Ge-DLC薄膜力学特性的比较 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 6 结论 | 第62-64页 |
| ·结论 | 第62-63页 |
| ·展望 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-71页 |
