集成电路布图设计法律保护研究
| 前言 | 第1页 |
| 第一部分 集成电路布图设计概述 | 第10-15页 |
| 一、集成电路简介 | 第10-11页 |
| 二、集成电路布图设计 | 第11-15页 |
| (一) 集成电路布图设计的概念 | 第11-12页 |
| (二) 集成电路布图设计的特点 | 第12-13页 |
| (三) 布图设计与作品和发明创造的关系 | 第13-15页 |
| 第二部分 世界集成电路布图设计立法 | 第15-22页 |
| 一、各国集成电路布图设计立法 | 第15-19页 |
| (一) 美国《半导体芯片保护法》 | 第15-18页 |
| (二) 欧洲共同体《理事会指令》 | 第18-19页 |
| 二、国际公约对集成电路布图设计的保护 | 第19-22页 |
| (一) IPIC条约 | 第20-21页 |
| (二) TRIPS协议 | 第21-22页 |
| 三、集成电路布图设计立法特点 | 第22页 |
| 第三部分 中国集成电路布图设计保护 | 第22-41页 |
| 一、采用专门立法模式保护集成电路布图设计 | 第23-26页 |
| (一) 专利法的保护及不足 | 第23-24页 |
| (二) 著作权法的保护及不足 | 第24-26页 |
| 二、集成电路布图设计法的保护对象 | 第26-29页 |
| (一) 受保护的条件 | 第26-28页 |
| (二) 独创性判定 | 第28-29页 |
| 三、集成电路布图设计权的主体 | 第29-30页 |
| 四、集成电路布图设计权的取得方式和保护期限 | 第30-32页 |
| (一) 布图设计权的取得方式 | 第30-32页 |
| (二) 布图设计权的保护期限 | 第32页 |
| 五、集成电路布图设计权的内容 | 第32-36页 |
| (一) 复制权 | 第33页 |
| (二) 商业利用权 | 第33-36页 |
| 六、集成电路布图设计权的限制 | 第36-39页 |
| (一) 合理使用 | 第36页 |
| (二) 反向工程 | 第36-37页 |
| (三) 独立创作 | 第37页 |
| (四) 权利用尽 | 第37页 |
| (五) 善意侵权 | 第37-38页 |
| (六) 非自愿许可 | 第38-39页 |
| 七、侵权行为和救济途径 | 第39-41页 |
| (一) 侵权行为及其认定 | 第39页 |
| (二) 行政救济 | 第39-40页 |
| (三) 司法救济 | 第40-41页 |
| 第四部分 我国集成电路布图设计法的立法完善 | 第41-46页 |
| 一、立法层次太低 | 第42页 |
| 二、关于职务设计 | 第42页 |
| 三、关于善意侵权 | 第42-43页 |
| 四、关于法律救济 | 第43-46页 |
| (一) 完善民事赔偿规定 | 第43-44页 |
| (二) 增加证据保全 | 第44页 |
| (三) 建立海关禁令 | 第44-45页 |
| (四) 完善行政保护手段 | 第45页 |
| (五) 增加刑事保护 | 第45-46页 |
| 结语 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-49页 |
