| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 引言 | 第9页 |
| 1 类金刚石膜的研究现状 | 第9-24页 |
| 1．1 类金刚石膜发展史 | 第9页 |
| 1．2 类金刚石膜的结构 | 第9-11页 |
| 1．3 类金刚石膜的制备方法 | 第11-13页 |
| 1．3．1 物理气相沉积 | 第11-12页 |
| 1．3．2 化学气相沉积 | 第12-13页 |
| 1．4 类金刚石膜的性能和应用 | 第13-16页 |
| 1．4．1 类金刚石膜的性能 | 第13-15页 |
| 1．4．2 类金刚石膜的应用 | 第15-16页 |
| 1．5 类金刚石膜技术存在的主要问题 | 第16-17页 |
| 1．6 类金刚石膜掺杂的研究现状 | 第17-22页 |
| 1．6．1 对疏水性的影响 | 第17-18页 |
| 1．6．2 对光学性能的影响 | 第18页 |
| 1．6．3 对摩擦、磨损性能的影响 | 第18-19页 |
| 1．6．4 对电学性能的影响 | 第19-20页 |
| 1．6．5 对热稳定性的影响 | 第20-21页 |
| 1．6．6 对力学性能的影响 | 第21页 |
| 1．6．7 对生物相容性的影响 | 第21-22页 |
| 1．7 研究课题的提出 | 第22-23页 |
| 1．8 课题研究内容 | 第23-24页 |
| 2 含硅类金刚石薄膜的制备与表征方法 | 第24-30页 |
| 2．1 制备方法 | 第24-26页 |
| 2．1．1 微波ECR等离子体源的原理和特点 | 第24-25页 |
| 2．1．2 PVD技术 | 第25-26页 |
| 2．1．3 ECR—PECVD技术 | 第26页 |
| 2．2 含硅类金刚石薄膜的表征方法 | 第26-30页 |
| 2．2．1 薄膜的成分表征 | 第26页 |
| 2．2．2 傅立叶变换红外吸收光谱(FT-IR) | 第26-27页 |
| 2．2．3 拉曼光谱(Raman) | 第27-28页 |
| 2．2．4 原子力显微镜(AFM) | 第28页 |
| 2．2．5 光学显微镜 | 第28页 |
| 2．2．6 交流阻抗 | 第28页 |
| 2．2．7 纳米压痕(Nanolndentation) | 第28-29页 |
| 2．2．8 接触角测量仪 | 第29-30页 |
| 3 实验设备和工艺 | 第30-36页 |
| 3．1 实验设备 | 第30-32页 |
| 3．2 实验材料的选择 | 第32页 |
| 3．3 实验前处理 | 第32页 |
| 3．4 PECVD制备类金刚石膜 | 第32-33页 |
| 3．4．1 工艺流程 | 第32-33页 |
| 3．4．2 工艺参数的选择 | 第33页 |
| 3．5 PVD+PECVD／PECVD结合制备含硅类金刚石膜 | 第33-35页 |
| 3．6 PVD+PECVD结合制备含硅类金刚石膜 | 第35-36页 |
| 4 结果与讨论 | 第36-63页 |
| 4．1 薄膜的组分表征 | 第36页 |
| 4．2 傅立叶变换红外光谱(FT-IR)分析 | 第36-42页 |
| 4．3 Raman光谱分析 | 第42-48页 |
| 4．4 薄膜的形貌表征 | 第48-55页 |
| 4．5 纳米压痕测试分析 | 第55-59页 |
| 4．6 薄膜的疏水性能测试 | 第59页 |
| 4．7 薄膜的耐腐蚀性能测试 | 第59-63页 |
| 5 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-72页 |
| 大连理工大学学位论文版权使用授权书 | 第72页 |