| 1.目录 | 第1-6页 |
| 2.摘要 | 第6-7页 |
| 3.ABSTRACT | 第7-8页 |
| 4.第一章 绪论 | 第8-11页 |
| §1.1 薄膜的发展及应用现状 | 第8页 |
| §1.2 薄膜参数的测试方法简介 | 第8-10页 |
| §1.3 本课题的研究意义和内容 | 第10-11页 |
| 5.第二章 反射光谱法测量薄膜参数原理 | 第11-20页 |
| §2.1 计算反射率的理论模型探索 | 第11-17页 |
| §2.1.1 等效复折射率法 | 第12-15页 |
| §2.1.2 应用菲涅耳系数的计算方法 | 第15-16页 |
| §2.1.3 基底的先行分析 | 第16-17页 |
| §2.2 Forouhi-Bloomer模型的引入 | 第17页 |
| §2.3 计算反射率的两种理论模型的比较分析 | 第17-20页 |
| §2.4 小结 | 第20页 |
| 6.第三章 遗传算法反演求参数 | 第20-27页 |
| §3.1 优化算法简介 | 第20-22页 |
| §3.2 遗传算法的引入 | 第22页 |
| §3.3 遗传算法在处理反射光谱测量数据中的应用 | 第22-25页 |
| §3.2.1 编码及初始种群的生成 | 第23页 |
| §3.2.2 适应度函数 | 第23-24页 |
| §3.2.3 选择和交叉算子 | 第24页 |
| §3.2.4 变异算子 | 第24-25页 |
| §3.4 利用遗传算法反演求参数的效果验证 | 第25-27页 |
| §3.5 小结 | 第27页 |
| 7.第四章 反射光谱法测定样品几何厚度和光学参数 | 第27-40页 |
| §4.1 实验装置 | 第27-28页 |
| §4.2 反射率光谱数据的测量 | 第28-33页 |
| §4.2.1 单色仪的定标 | 第28-30页 |
| §4.2.2 半透半反片反射率谱的修正 | 第30页 |
| §4.2.3 铝膜反射率谱 | 第30页 |
| §4.2.4 测量原理 | 第30-33页 |
| §4.3 样品测试结果及误差分析 | 第33-39页 |
| §4.3.1 石英基底的光学参数测定 | 第33-34页 |
| §4.3.2 误差分析 | 第34-35页 |
| §4.3.3 晶体Si上用化学方法制备的非晶态Si膜光学参数的测定 | 第35-39页 |
| §4.4 小结 | 第39-40页 |
| 8.第五章 总结 | 第40-42页 |
| §5.1 本文完成的工作 | 第40页 |
| §5.2 工作中的不足及展望 | 第40-42页 |
| 9.致谢 | 第42-43页 |
| 10.参考文献 | 第43-45页 |
| 11.附录 | 第45-47页 |
| 附录A | 第45-46页 |
| 附录B | 第46-47页 |
| 附录C | 第47页 |