微流控芯片制作的研究及软件模拟
| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-14页 |
| §1.1 光微流体技术的发展 | 第6-8页 |
| §1.2 芯片实验室(lab-on-chip) | 第8-10页 |
| §1.3 半导体工艺在微流体技术中的发展和应用。 | 第10-11页 |
| §1.4 论文结构 | 第11-12页 |
| §1.5 论文的创新点 | 第12页 |
| 参考文献: | 第12-14页 |
| 第二章 硅的各向同性腐蚀和微流体阳模的制作 | 第14-35页 |
| §2.1 硅的晶体结构 | 第14-17页 |
| §2.2 硅的各向同性湿法腐蚀 | 第17-19页 |
| §2.3 微流控芯片的阳模的制作 | 第19-34页 |
| ·掩模板的制作 | 第20-22页 |
| ·掩模层的制作 | 第22-24页 |
| ·光刻工艺 | 第24-28页 |
| ·湿法腐蚀制作微流控芯片阳模 | 第28-34页 |
| §2.4 小结 | 第34页 |
| 参考文献: | 第34-35页 |
| 第三章 软光刻技术的研究 | 第35-50页 |
| §3.1 软光刻技术 | 第35-40页 |
| §3.2 微流通道制作的实验过程 | 第40-48页 |
| §3.3 小结 | 第48页 |
| 参考文献: | 第48-50页 |
| 第四章 微流体层流对液体折射率影响的分析 | 第50-62页 |
| §4.1 微流体层流现象的原理及其应用 | 第50-52页 |
| §4.2 层流中液体波导折射率变化的研究 | 第52-60页 |
| §小结 | 第60页 |
| 参考文献 | 第60-62页 |
| 第五章 总结与展望 | 第62-64页 |
| §5.1 论文总结 | 第62页 |
| §5.2 实验工作总结 | 第62页 |
| §5.3 课题研究的创新点 | 第62-63页 |
| §5.4 实验工作展望 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 硕士期间已投文章 | 第65页 |
