摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-9页 |
1 绪论 | 第9-18页 |
·GaAs光电阴极的发展及应用 | 第9-12页 |
·反射式GaAs光电阴极的结构及性能 | 第12-13页 |
·透射式GaAs光电性能的结构及性能 | 第13-17页 |
·本文的主要工作 | 第17-18页 |
2 变掺杂光电阴极结构的特性研究 | 第18-29页 |
·变掺杂的制备方法 | 第18-19页 |
·变掺杂光电阴极的结构 | 第19-26页 |
·梯度掺杂 | 第19-22页 |
·指数掺杂 | 第22-26页 |
·变掺杂光电阴极与量子效率的关系 | 第26-28页 |
·本章小结 | 第28-29页 |
3 材料结构设计优化 | 第29-40页 |
·光学窗口 | 第29页 |
·增透膜 | 第29-30页 |
·缓冲层 | 第30-38页 |
·高铝组分半导体材料和组件的制备工艺 | 第30-31页 |
·Al_xGa_(1-x)As/GaAs中x值与光谱响应之间的关系 | 第31-38页 |
·光电发射层 | 第38页 |
·本章小结 | 第38-40页 |
4 反射式光电阴极和透射式光电阴极的联系和转换研究 | 第40-59页 |
·研究的意义和现实价值 | 第40页 |
·反射式光电阴极和透射式光电阴极的联系和区别 | 第40-43页 |
·结构上的联系与区别 | 第40-41页 |
·计算阴极灵敏度和量子效率时的联系和区别 | 第41-43页 |
·由反射式光电阴极的量子效率曲线预估透射式的最大发射能力 | 第43-47页 |
·解决问题的前期准备 | 第43-45页 |
·均匀掺杂的反射式光电阴极向透射式光电阴极的转换 | 第45-46页 |
·指数掺杂的反射式光电阴极向透射式光电阴极的转换 | 第46-47页 |
·实验验证及结果分析 | 第47-57页 |
·均匀掺杂透射式光电阴极的实验研究 | 第50-51页 |
·实验结果分析 | 第51-54页 |
·指数掺杂透射式光电阴极的实验研究 | 第54-55页 |
·实验结果分析 | 第55-57页 |
·本章小结 | 第57-59页 |
5 结束语 | 第59-62页 |
·本论文的工作总结 | 第59-60页 |
·有待进一步进行的工作 | 第60页 |
·展望 | 第60-62页 |
致谢 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-66页 |