| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-28页 |
| ·场发射显示器概述 | 第10-16页 |
| ·FED的发展 | 第10-12页 |
| ·FED的基本原理 | 第12-13页 |
| ·FED的性能优势 | 第13-14页 |
| ·FED的市场分析 | 第14-15页 |
| ·FED关联技术问题 | 第15-16页 |
| ·场发射冷阴极 | 第16-24页 |
| ·冷阴极材料 | 第16-18页 |
| ·冷阴极发射体结构 | 第18-22页 |
| ·场发射器件的实用结构 | 第22-24页 |
| ·论文选题及主要研究内容 | 第24-28页 |
| ·FED的研究现状及存在的问题 | 第24-26页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第26-28页 |
| 第二章 场发射阴极工艺设计 | 第28-42页 |
| ·发射体材料的选取及分析 | 第28-33页 |
| ·材料的选择 | 第28-31页 |
| ·尺寸的选择 | 第31页 |
| ·纳米金刚石粉的分析 | 第31-33页 |
| ·衬底材料的选取及处理 | 第33-35页 |
| ·衬底材料的选取 | 第33-34页 |
| ·衬底材料的表面处理 | 第34-35页 |
| ·阴极制备工艺的设计 | 第35-39页 |
| ·工艺流程的设计 | 第35页 |
| ·纳米金刚石粉的分散工艺 | 第35-36页 |
| ·纳米金刚石粉的涂敷工艺 | 第36页 |
| ·热处理工艺的设计 | 第36-38页 |
| ·氢等离子体处理系统的设计 | 第38-39页 |
| ·场发射测试系统的设计 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第三章 钛基纳米金刚石涂层场发射阴极理论研究 | 第42-62页 |
| ·电子从金属注入到金刚石 | 第42-51页 |
| ·钛与金刚石的键合模型构建基础 | 第42-43页 |
| ·钛与金刚石的键合模型 | 第43-44页 |
| ·模型分析 | 第44-51页 |
| ·电子在金刚石中的传导 | 第51-53页 |
| ·电子的体传导机制 | 第51页 |
| ·电子在金刚石薄膜(涂层)中的传输 | 第51-53页 |
| ·电子从金刚石发射到真空 | 第53-60页 |
| ·金刚石的负电亲和势 | 第53-54页 |
| ·氢吸附金刚石的特性 | 第54-57页 |
| ·金刚石/真空界面隧穿模型——F-N理论 | 第57-60页 |
| ·整体电子传输过程 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第四章 旋涂法涂敷纳米金刚石涂层及其场发射性能分析 | 第62-97页 |
| ·纳米金刚石的分散工艺研究 | 第62-73页 |
| ·纳米金刚石的合成与性能 | 第62-63页 |
| ·纳米粉体的团聚机理和分散稳定理论 | 第63-65页 |
| ·纳米金刚石分散实验与结果分析 | 第65-73页 |
| ·小结 | 第73页 |
| ·旋涂工艺实验及样品场发射性能分析 | 第73-88页 |
| ·热处理温度与分散液配方(各成分配比)对样品场发射性能的综合影响 | 第74-78页 |
| ·涂敷次数(涂层厚度)与分散液配方(各成分配比)对样品性能的综合影响 | 第78-81页 |
| ·热处理温度与涂敷次数(涂层厚度)对样品性能的综合影响 | 第81-84页 |
| ·实验结果反映出来的问题 | 第84-85页 |
| ·发光效果分析 | 第85-86页 |
| ·小结 | 第86-88页 |
| ·氢等离子体处理及其对样品场发射性能的影响 | 第88-96页 |
| ·处理时间的影响 | 第88-91页 |
| ·反应室压强的影响 | 第91-92页 |
| ·射频功率的影响 | 第92-94页 |
| ·参数筛选 | 第94页 |
| ·氢处理对样品发光效果的影响 | 第94-96页 |
| ·本章小结 | 第96-97页 |
| 第五章 电泳法沉积纳米金刚石涂层及其场发射性能分析 | 第97-127页 |
| ·电泳概述 | 第97-98页 |
| ·电泳原理 | 第97页 |
| ·电泳装置及工艺过程 | 第97-98页 |
| ·电泳液的设计 | 第98-99页 |
| ·设计要求 | 第98页 |
| ·电泳液配方 | 第98-99页 |
| ·配方Ⅰ的沉积结果及样品性能分析 | 第99-100页 |
| ·配方Ⅱ的沉积结果及样品性能分析 | 第100-101页 |
| ·配方Ⅲ的沉积结果及样品性能分析 | 第101-117页 |
| ·电泳时间(涂层厚度)对样品性能的影响 | 第102-106页 |
| ·厚涂层样品的性能分析 | 第106-111页 |
| ·薄涂层样品的性能分析 | 第111-114页 |
| ·发射电流与发光效果对比分析 | 第114-116页 |
| ·小结 | 第116-117页 |
| ·氢处理及其对样品性能的影响 | 第117-125页 |
| ·处理时间的影响 | 第117-120页 |
| ·射频功率的影响 | 第120-122页 |
| ·反应室压强的影响 | 第122-123页 |
| ·参数筛选 | 第123-124页 |
| ·氢处理对发光效果的影响 | 第124-125页 |
| ·本章小结 | 第125-127页 |
| 第六章 总结 | 第127-136页 |
| ·涂敷工艺比较 | 第127-130页 |
| ·工作总结 | 第130-133页 |
| ·存在的问题以及今后的工作方向 | 第133-136页 |
| 参考文献 | 第136-146页 |
| 在读期间发表的与论文相关的科研成果 | 第146-147页 |
| 致谢 | 第147页 |
