摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4-8页 |
第一章绪论 | 第8-23页 |
1.1课题研究的目的与意义 | 第8-9页 |
1.2层状Si3N4基陶瓷原料的基本性质 | 第9-10页 |
1.2.1Si3N4的基本性质 | 第9页 |
1.2.2SiC的基本性质 | 第9-10页 |
1.2.3ZrB2的基本性质 | 第10页 |
1.3Si3N4陶瓷研究现状 | 第10-17页 |
1.3.1Si3N4陶瓷的烧结助剂 | 第10-12页 |
1.3.2Si3N4陶瓷的增韧方式 | 第12-14页 |
1.3.3Si3N4陶瓷的烧结方式 | 第14-16页 |
1.3.4Si3N4陶瓷的抗氧化性能研究 | 第16-17页 |
1.3.5Si3N4陶瓷的抗热震性能研究 | 第17页 |
1.4层状陶瓷研究现状 | 第17-22页 |
1.4.1层状陶瓷材料的选择 | 第17-20页 |
1.4.2层状陶瓷材料的增韧 | 第20页 |
1.4.3层状陶瓷的成型工艺 | 第20-22页 |
1.5主要研究内容与创新点 | 第22-23页 |
1.5.1主要研究内容 | 第22页 |
1.5.2创新点 | 第22-23页 |
第二章层状Si3N4基陶瓷的制备及实验方法 | 第23-31页 |
2.1实验原料与设备 | 第23-24页 |
2.1.1原料 | 第23页 |
2.1.2仪器与设备 | 第23-24页 |
2.2层状Si3N4/SiC陶瓷材料的制备工艺 | 第24-25页 |
2.2.1流延片的制备 | 第24-25页 |
2.2.2叠层成型 | 第25页 |
2.2.3真空脱脂 | 第25页 |
2.2.4烧结 | 第25页 |
2.3层状Si3N4基陶瓷的测试与表征 | 第25-31页 |
2.3.1浆料的流变性能测试 | 第25-26页 |
2.3.2微观结构分析和材料成分分析 | 第26页 |
2.3.3密度测试 | 第26页 |
2.3.4硬度测试 | 第26页 |
2.3.5断裂韧性测试 | 第26-28页 |
2.3.6弯曲强度测试 | 第28-30页 |
2.3.7抗氧化性能测试 | 第30页 |
2.3.8抗热震性能测试 | 第30-31页 |
第三章层状Si3N4基陶瓷流延成型工艺研究 | 第31-42页 |
3.1基体层流延成型工艺研究 | 第31-37页 |
3.1.1粘结剂含量对Si3N4流延浆料流变特性的影响 | 第31-32页 |
3.1.2增塑剂含量对Si3N4流延浆料流变特性的影响 | 第32-33页 |
3.1.3固相含量对Si3N4流延浆料流变特性片的影响 | 第33页 |
3.1.4粘结剂含量对Si3N4基体层流延片的影响 | 第33-34页 |
3.1.5增塑剂含量对Si3N4基体层流延片的影响 | 第34页 |
3.1.6固相含量对Si3N4基体层流延片的影响 | 第34-35页 |
3.1.7分散剂对Si3N4基体层流延片的影响 | 第35-36页 |
3.1.8干燥工艺对Si3N4基体层流延片的影响 | 第36-37页 |
3.2界面层流延成型工艺研究 | 第37-39页 |
3.2.1粘结剂含量对界面层流延片的影响 | 第37-38页 |
3.2.2固相含量对界面层流延片的影响 | 第38-39页 |
3.3流延片脱脂工艺的研究 | 第39-40页 |
3.3.1流延片脱脂前后形貌图 | 第40页 |
3.4本章小结 | 第40-42页 |
第四章层状Si3N4基陶瓷材料的力学性能及微观结构 | 第42-53页 |
4.1层状Si3N4基陶瓷材料的微观结构 | 第42-45页 |
4.2层状Si3N4基陶瓷材料的物理性能 | 第45-47页 |
4.3层状Si3N4基陶瓷材料的力学性能及断裂行为 | 第47-49页 |
4.4层状Si3N4基陶瓷的R曲线行为 | 第49-52页 |
4.5本章小结 | 第52-53页 |
第五章层状Si3N4基陶瓷材料的抗氧化性能研究 | 第53-61页 |
5.1层状Si3N4基陶瓷材料的氧化增重 | 第53-54页 |
5.2层状Si3N4基陶瓷材料氧化后的形貌 | 第54-59页 |
5.3层状Si3N4基陶瓷材料材料氧化后的力学性能 | 第59-60页 |
5.4本章小结 | 第60-61页 |
第六章层状Si3N4基陶瓷材料的抗热震性能研究 | 第61-66页 |
6.1层状Si3N4基陶瓷材料的残余抗弯强度 | 第61-62页 |
6.2层状Si3N4基陶瓷材料热震后的形貌 | 第62-64页 |
6.3层状Si3N4基复合材料抗热震机理分析 | 第64-65页 |
6.4本章小结 | 第65-66页 |
第七章结论 | 第66-68页 |
参考文献 | 第68-73页 |
在读期间公开发表的论文 | 第73-74页 |
致谢 | 第74页 |