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基于MC研究海底原位X射线荧光探测装置

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第1章 引言第9-13页
    1.1 选题依据及研究意义第9-10页
    1.2 研究现状与存在问题第10-12页
        1.2.1 国外研究现状第10-11页
        1.2.2 国内研究现状第11-12页
    1.3 研究内容和创新点第12-13页
        1.3.1 研究内容第12页
        1.3.2 主要创新点第12-13页
第2章 基本原理第13-22页
    2.1 海底原位X射线荧光探测第13-18页
        2.1.1 海底原位X射线荧光探测系统第13页
        2.1.2 海底原位X射线荧光探测工作原理第13-18页
    2.2 蒙特卡罗方法简介第18-22页
        2.2.1 蒙特卡罗方法基本思想第18-19页
        2.2.2 MCNP程序简介第19-22页
第3章 理论分析第22-33页
    3.1 X光管工作电压的影响第22-23页
    3.2 “源-样-探”的几何结构分析第23-26页
        3.2.1 “源-样-探”角度研究第23-25页
        3.2.2 “源-样-探”距离研究第25-26页
    3.3 海底原位X荧光分析中探测窗的影响第26-28页
        3.3.1 探测窗安全厚度计算第26页
        3.3.2 探测窗厚度的影响及校正第26-27页
        3.3.3 探测窗杂质的影响及校正第27-28页
    3.4 海底原位X射线荧光探测中水分效应的研究第28-33页
        3.4.1 样品内部水的影响及对策第28-30页
        3.4.2 样品外水层的影响及对策第30-33页
第4章 蒙特卡罗模拟第33-39页
    4.1 最佳激发电压的模拟第33-34页
    4.2 最佳探测装置的模拟第34-35页
        4.2.1 “源-样-探”角度模拟第34-35页
        4.2.2 “源-样-探”距离模拟第35页
    4.3 探测窗的模拟第35-37页
        4.3.1 目标元素特征X射线在不同探测窗厚度下的透过情况模拟第36页
        4.3.2 有无探测窗时目标元素特征X射线强度的模拟第36-37页
        4.3.3 探测窗中杂质的模拟第37页
    4.4 水分效应的模拟第37-39页
        4.4.1 样品内部水第38页
        4.4.2 样品外水层第38-39页
第5章 模拟结果与分析第39-59页
    5.1 最佳激发电压模拟结果与分析第39-40页
    5.2 探测装置模拟结果与分析第40-47页
        5.2.1 最佳“源-样-探”角度第40-44页
        5.2.2 最佳“源-样-探”距离第44-47页
    5.3 探测窗模拟结果与分析第47-52页
        5.3.1 探测窗厚度的确定第47-48页
        5.3.2 有无探测窗时目标元素特征X射线强度与其含量的关系第48-50页
        5.3.3 探测窗中杂质的影响及校正第50-52页
    5.4 水分效应的模拟结果与分析第52-59页
        5.4.1 样品内部水校正第52-54页
        5.4.2 样品外水层校正第54-59页
结论第59-60页
致谢第60-61页
参考文献第61-64页
攻读学位期间取得学术成果第64页

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