| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第7-13页 |
| 1.1 本论文的研究目的和意义 | 第7-8页 |
| 1.2 基于MEMS光纤压力传感器的国内外研究现状 | 第8-11页 |
| 1.3 本文的主要研究内容 | 第11-13页 |
| 第二章 基于MEMS光纤压力传感器的基本原理 | 第13-24页 |
| 2.1 基于MEMS光纤压力传感器的干涉原理—多光束干涉 | 第13-15页 |
| 2.2 光纤法布里-珀罗传感器的解调原理 | 第15-23页 |
| 2.2.1 波长解调法 | 第15-19页 |
| 2.2.2 强度解调法 | 第19-20页 |
| 2.2.3 相位解调法 | 第20-23页 |
| 2.3 本章小结 | 第23-24页 |
| 第三章 基于MEMS光纤压力传感器的理论分析与设计 | 第24-36页 |
| 3.1 基于MEMS光纤压力传感器的结构 | 第24-25页 |
| 3.2 基于MEMS光纤压力传感器的设计原理 | 第25-28页 |
| 3.2.1 位移柱位置的选定 | 第26-27页 |
| 3.2.2 压力敏感膜半径的选定 | 第27页 |
| 3.2.3 压力敏感膜膜厚的选定 | 第27-28页 |
| 3.3 基于MEMS光纤压力传感器力学性能的有限元仿真 | 第28-33页 |
| 3.4 基于MEMS光纤压力传感器的F-P腔腔长的参数设计 | 第33-35页 |
| 3.5 本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 基于MEMS光纤压力传感器的制作与测试 | 第36-49页 |
| 4.1 基于MEMS光纤压力传感器的加工工艺 | 第36-39页 |
| 4.1.1 光刻 | 第36-37页 |
| 4.1.2 硅湿法腐蚀 | 第37-38页 |
| 4.1.3 反应离子刻蚀技术 | 第38-39页 |
| 4.1.4 阳极键合 | 第39页 |
| 4.2 基于MEMS光纤压力传感器的制备 | 第39-43页 |
| 4.2.1 传感器的尺寸设计 | 第39-40页 |
| 4.2.2 制备传感器的工艺流程 | 第40-43页 |
| 4.3 基于MEMS光纤压力传感器的实验测试 | 第43-45页 |
| 4.3.1 传感器实验测试系统 | 第43-44页 |
| 4.3.2 实验测试的解调方法设计 | 第44-45页 |
| 4.4 压力实验测试结果及分析 | 第45-48页 |
| 4.4.1 线性度 | 第46-48页 |
| 4.4.2 灵敏度 | 第48页 |
| 4.5 本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 基于LabVIEW解调分析系统的设计 | 第49-61页 |
| 5.1 LabVIEW简介 | 第49页 |
| 5.2 基于LabVIEW解调操作系统的界面设计 | 第49-52页 |
| 5.2.1 设置单元界面设计 | 第50-51页 |
| 5.2.2 显示单元页面设计 | 第51-52页 |
| 5.3 基于LabVIEW解调操作系统的后台程序设计 | 第52-60页 |
| 5.3.1 数据采集程序模块 | 第52-53页 |
| 5.3.2 数据处理程序模块 | 第53-60页 |
| 5.4 本章小结 | 第60-61页 |
| 第六章 结束语 | 第61-63页 |
| 6.1 工作总结 | 第61-62页 |
| 6.2 本文的主要创新点 | 第62页 |
| 6.3 后续的工作展望 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 作者简介 | 第68页 |
