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封闭铁磁边界下均匀磁场发生装置的研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5-6页
第1章 绪论第9-18页
    1.1 课题的背景和意义第9-11页
        1.1.1 课题来源与研究背景第9-10页
        1.1.2 研究的目的和意义第10-11页
    1.2 屏蔽层内线圈设计的研究现状第11-17页
        1.2.1 铁磁屏蔽和线圈屏蔽的研究现状第11-12页
        1.2.2 线圈设计的研究现状第12-13页
        1.2.3 铁磁屏蔽层内线圈设计的研究现状第13-17页
    1.3 本文的主要研究内容第17-18页
第2章 屏蔽层内线圈磁场解析模型的建立第18-30页
    2.1 引言第18页
    2.2 屏蔽层内传统线圈的局限性分析第18-21页
        2.2.1 传统均匀磁场线圈的结构第18-20页
        2.2.2 屏蔽层内Merritt线圈的局限性第20-21页
    2.3 基于镜像法的屏蔽层内线圈磁场解析模型第21-26页
        2.3.1 载流直导线的磁场计算第21-23页
        2.3.2 二维镜像解析模型的建立第23-25页
        2.3.3 三维镜像解析模型的建立第25-26页
    2.4 线圈磁场解析模型的有限元验证第26-29页
        2.4.1 有限元法计算第26页
        2.4.2 解析值和有限元值的对比分析第26-29页
    2.5 本章小结第29-30页
第3章 大体积匀场线圈的设计方法第30-39页
    3.1 引言第30页
    3.2 线圈的主要设计指标第30-31页
    3.3 线圈的设计原理分析第31-35页
        3.3.1 线圈的新型设计原理第31-34页
        3.3.2 基于新型设计原理的线圈性能分析第34-35页
    3.4 屏蔽层内线圈的设计方法与性能分析第35-38页
        3.4.1 空间离散点磁场为判据的匀场线圈设计方法第36-37页
        3.4.2 传统线圈与屏蔽层内新线圈的性能比较第37-38页
    3.5 本章小结第38-39页
第4章 屏蔽层内线圈参数特性的研究第39-51页
    4.1 引言第39页
    4.2 屏蔽层内线圈指标对线圈参数的影响分析第39-43页
        4.2.1 线圈尺寸对线圈参数的影响分析第39-42页
        4.2.2 偏差率对线圈参数的影响分析第42-43页
    4.3 屏蔽层内偏置线圈设计及参数特性分析第43-49页
        4.3.1 屏蔽层内偏置线圈的设计方法第44-45页
        4.3.2 偏移量对偏置线圈参数及性能的影响分析第45-47页
        4.3.3 偏置线圈设计的有限元验证第47-49页
    4.4 本章小结第49-51页
第5章 屏蔽层内线圈的实验研究第51-61页
    5.1 引言第51页
    5.2 屏蔽室内线圈的实验系统第51-55页
        5.2.1 实验平台和线圈系统第51-53页
        5.2.2 线圈性能的测试系统第53-55页
    5.3 线圈磁场解析模型的实验验证第55-58页
    5.4 线圈设计方法的实验验证第58-59页
    5.5 本章小结第59-61页
结论第61-63页
参考文献第63-67页
攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果第67-69页
致谢第69页

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