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Ⅲ族氮化物半导体材料拉曼光谱特性的应用研究

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-9页
符号对照表第14-15页
缩略语对照表第15-20页
第一章 绪论第20-32页
    1.1 Ⅲ族氮化物半导体材料及器件的研究意义第20-22页
    1.2 拉曼光谱在材料分析中的应用第22-27页
        1.2.1 拉曼光谱的技术优势和应用领域第22-24页
        1.2.2 新型拉曼光谱技术第24-27页
    1.3 拉曼光谱在Ⅲ族氮化物半导体材料分析中的应用第27-30页
    1.4 本文的研究安排第30-32页
第二章 拉曼光谱的基本原理第32-46页
    2.1 拉曼散射的特征量第32-36页
        2.1.1 拉曼散射的频率第32-33页
        2.1.2 拉曼散射的强度第33-35页
        2.1.3 拉曼散射谱的线宽与线形第35-36页
    2.2 纤锌矿结构GaN的拉曼散射第36-39页
    2.3 GaN的LOPC模第39-41页
    2.4 拉曼光谱测量三元合金组分第41-43页
    2.5 拉曼光谱测试系统介绍第43-46页
第三章 极性GaN材料的拉曼光谱研究第46-66页
    3.1 不同衬底对GaN应力的影响第46-52页
        3.1.1 常见的异质外延衬底第46-48页
        3.1.2 不同材料衬底上的GaN薄膜生长第48页
        3.1.3 采用不同材料衬底生长对GaN材料残余应力的影响第48-51页
        3.1.4 采用不同类型蓝宝石衬底生长对GaN材料残余应力的影响第51-52页
    3.2 PSS上生长n型GaN薄膜中结晶质量的空间分辨差异表征第52-58页
        3.2.1 PSS上生长n型GaN薄膜的生长方法和基本表征第53-55页
        3.2.2 PSS上生长n型GaN薄膜的CL测试分析第55-56页
        3.2.3 PSS上生长n型GaN薄膜的拉曼成像测试分析第56-57页
        3.2.4 PSS上生长n型GaN薄膜的TEM测试分析第57-58页
    3.3 N面GaN材料中六方凸起结构表征第58-62页
        3.3.1 N面GaN材料的生长第59页
        3.3.2 N面GaN材料中六方凸起结构的拉曼成像测试分析第59-62页
        3.3.3 N面GaN材料中六方凸起结构内部位错湮灭机理第62页
    3.4 AlGaN材料中的A1组分测量第62-65页
        3.4.1 AlGaN薄膜的生长第63页
        3.4.2 AlGaN薄膜的XRD测试分析第63-64页
        3.4.3 AlGaN薄膜的拉曼光谱测试分析第64-65页
    3.5 本章小结第65-66页
第四章 非极性GaN材料的拉曼光谱分析第66-84页
    4.1 非极性a面GaN和m面GaN的一阶拉曼光谱第66-74页
        4.1.1 非极性GaN材料拉曼散射强度的选择定则第67-70页
        4.1.2 a面GaN同质外延衬底的一阶拉曼光谱第70-72页
        4.1.3 m面GaN同质外延衬底的一阶拉曼光谱第72-73页
        4.1.4 非极性GaN材料的各向异性分析第73-74页
    4.2 a面GaN在ELOG生长中的各向异性表征第74-80页
        4.2.1 a面GaN的ELOG生长第74-75页
        4.2.2 ELOG生长a面GaN的形貌表征第75-76页
        4.2.3 ELOG生长a面GaN中不同区域的拉曼光谱对比第76-78页
        4.2.4 ELOG生长a面GaN的生长机理分析第78-80页
    4.3 a面GaN薄膜不同深度处的体载流子浓度测量第80-83页
        4.3.1 拉曼光谱测量GaN材料中自由载流子浓度的理论方法第80-81页
        4.3.2 拉曼光谱测量a面GaN薄膜的截面第81-82页
        4.3.3 a面GaN薄膜不同深度处的载流子浓度计算和分析第82-83页
    4.4 本章小结第83-84页
第五章 半极性GaN的拉曼光谱研究第84-96页
    5.1 半极性GaN的一阶拉曼光谱第84-89页
        5.1.1 (11(?)2)面GaN同质外延衬底的一阶拉曼光谱第84-87页
        5.1.2 (10(?)1)面GaN同质外延衬底的一阶拉曼光谱第87-89页
    5.2 半极性(11(?)2)面GaN的偏振拉曼光谱研究第89-92页
    5.3 C元素离子注入对(11(?)2)面GaN拉曼光谱的影响第92-94页
        5.3.1 C元素离子注入的拉曼光谱测试第92-93页
        5.3.2 离子注入前后和退火后(11(?)2)面GaN的拉曼光谱对比第93-94页
    5.4 本章小结第94-96页
第六章 GaN材料的变温拉曼特性研究第96-108页
    6.1 GaN拉曼光谱的变温理论模型第96-98页
        6.1.1 温度对声子模散射峰频率的影响第96-97页
        6.1.2 温度对声子模散射峰的半高宽的影响第97-98页
    6.2 极性GaN材料的变温拉曼测试和分析第98-100页
    6.3 非极性GaN材料的变温拉曼测试和分析第100-103页
    6.4 半极性GaN材料的变温拉曼测试和分析第103-107页
    6.5 本章小结第107-108页
第七章 总结与展望第108-112页
参考文献第112-122页
致谢第122-124页
作者简介第124-126页
    1. 基本情况第124页
    2. 教育背景第124页
    3. 攻读博士学位期间的研究成果第124-126页
        3.1 发表学术论文第124-126页
        3.2 授权专利第126页
        3.3 参与科研项目及获奖第126页

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