| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 插图索引 | 第10-12页 |
| 附表索引 | 第12-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-24页 |
| 1.1 激光熔覆技术简述 | 第13-18页 |
| 1.1.1 激光熔覆技术发展过程及其特点 | 第13-14页 |
| 1.1.2 激光熔覆技术的基本原理 | 第14-17页 |
| 1.1.3 激光熔覆技术工艺方法 | 第17-18页 |
| 1.2 激光熔覆有限元分析的研究现状 | 第18-21页 |
| 1.2.1 国外研究现状 | 第18-19页 |
| 1.2.2 国内研究现状 | 第19-21页 |
| 1.3 激光熔覆存在的问题及发展前景 | 第21-22页 |
| 1.3.1 激光熔覆存在的问题 | 第21-22页 |
| 1.3.2 激光熔覆的发展前景 | 第22页 |
| 1.4 课题研究的意义及主要内容 | 第22-24页 |
| 1.4.1 本文研究意义 | 第22-23页 |
| 1.4.2 本文主要研究内容 | 第23-24页 |
| 第2章 激光熔覆数值计算理论与模型 | 第24-33页 |
| 2.1 计算流体动力学 | 第24-25页 |
| 2.2 FLUENT 软件的简述 | 第25-26页 |
| 2.3 激光熔覆数学模型和几何模型 | 第26-28页 |
| 2.3.1 数学模型 | 第26-27页 |
| 2.3.2 几何模型 | 第27-28页 |
| 2.4 激光熔覆传热模型 | 第28-32页 |
| 2.4.1 材料的热物理参数 | 第28页 |
| 2.4.2 激光熔覆过程中传热的基本理论 | 第28-30页 |
| 2.4.3 激光熔覆过程中激光、粉末、基体的相互作用 | 第30-32页 |
| 2.5 本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 激光熔覆模拟中的 UDF 编程 | 第33-46页 |
| 3.1 用户自定义函数（UDF ）介绍 | 第33页 |
| 3.2 镍铜合金粘度参数的 UDF 编程 | 第33-34页 |
| 3.3 气体- 粉末流模型 | 第34-40页 |
| 3.3.1 粉末的添加 | 第35-39页 |
| 3.3.2 气体对熔池表面的作用 | 第39-40页 |
| 3.4 激光熔覆的热源模型 | 第40-43页 |
| 3.4.1 高斯热源模型 | 第40-41页 |
| 3.4.2 均匀面热源模型 | 第41-43页 |
| 3.5 初始条件和边界条件 | 第43-45页 |
| 2.5.1 初始条件 | 第43-44页 |
| 2.5.2 边界条件 | 第44-45页 |
| 3.6 本章小结 | 第45-46页 |
| 第4章 激光熔覆熔池流场温度场模拟结果 | 第46-61页 |
| 4.1 求解过程介绍 | 第46-47页 |
| 4.2 激光熔覆熔池形成过程 | 第47-53页 |
| 4.3 送粉速率对熔池影响 | 第53-57页 |
| 4.3.1 送粉速率对准稳态熔池形貌的影响 | 第53-55页 |
| 4.3.2 送粉速率对准稳态熔池温度场的影响 | 第55-56页 |
| 4.3.3 送粉速率对准稳态熔池流场的影响 | 第56-57页 |
| 4.4 扫描速度对熔池的影响 | 第57-60页 |
| 4.4.1 扫描速度对准稳态熔池形貌的影响 | 第57-59页 |
| 4.4.2 扫描速度对准稳态熔池温度场的影响 | 第59-60页 |
| 4.4.3 扫描速度对准稳态熔池流场的影响 | 第60页 |
| 4.5 本章小结 | 第60-61页 |
| 第5章 激光熔覆试验分析 | 第61-67页 |
| 5.1 激光熔覆试验设备 | 第61-63页 |
| 5.1.1 半导体激光加工系统 | 第61-62页 |
| 5.1.2 送粉系统 | 第62页 |
| 5.1.3 检测系统 | 第62-63页 |
| 5.2 激光熔覆试验材料及工艺参数 | 第63页 |
| 5.3 试验结果分析 | 第63-66页 |
| 5.3.1 激光熔覆中熔池形成过程 | 第64-65页 |
| 5.3.2 送粉速率对熔池的影响 | 第65页 |
| 5.3.3 扫描速度对熔池的影响 | 第65-66页 |
| 5.4 本章小结 | 第66-67页 |
| 结论与展望 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第73页 |