| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第13-68页 |
| 1.1 拉曼光谱 | 第13-14页 |
| 1.2 表面增强拉曼光谱（SERS） | 第14-19页 |
| 1.2.1 表面增强拉曼简介 | 第14-15页 |
| 1.2.2 表面增强拉曼的增强机理 | 第15-17页 |
| 1.2.3 表面增强拉曼基底的分类 | 第17页 |
| 1.2.4 表面增强拉曼的检测 | 第17-19页 |
| 1.3 贵金属SERS基底的制备 | 第19-35页 |
| 1.3.1 Langmuir-Blodgett法 | 第19页 |
| 1.3.2 模板法 | 第19-23页 |
| 1.3.3 纳米球刻蚀技术（Nanosphere lithography） | 第23-24页 |
| 1.3.4 自组装法 | 第24-28页 |
| 1.3.5 电子束光刻技术（Electron beam lithography） | 第28-30页 |
| 1.3.6 纳米压印技术（Nanoimprint lithography） | 第30-31页 |
| 1.3.7 反应离子刻蚀法（Reactive ion etching） | 第31-32页 |
| 1.3.8 电纺丝法 | 第32-33页 |
| 1.3.9 伽伐尼置换反应（Galvanic displacement） | 第33-35页 |
| 1.5 表面增强拉曼的应用 | 第35-41页 |
| 1.5.1 化学中的应用 | 第35-37页 |
| 1.5.2 食品安全中的应用 | 第37-38页 |
| 1.5.3 环境保护和国土安全中的应用 | 第38-39页 |
| 1.5.4 生物及医学中的应用 | 第39-41页 |
| 1.5.5 艺术品鉴定及奢侈品防伪等方面的应用 | 第41页 |
| 1.6 表面增强拉曼检测技术新发展 | 第41页 |
| 1.7 石墨烯增强拉曼光谱 | 第41-43页 |
| 1.8 贵金属/半导体SERS基底的设计思路 | 第43-48页 |
| 1.9 论文设想 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-68页 |
| 第二章 介电常数对贵金属/半导体SERS基底增强效果的影响——Ag/Ge和Ag/Si基底FDTD理论模拟及实验验证 | 第68-95页 |
| 2.1 前言 | 第68-70页 |
| 2.2 实验部分 | 第70-71页 |
| 2.2.1 时域有限差分（FDTD）模拟 | 第70页 |
| 2.2.2 实验试剂 | 第70页 |
| 2.2.3 Ag/Ge基底的制备 | 第70页 |
| 2.2.4 Ag/Si基底的制备 | 第70-71页 |
| 2.2.5 测试表征 | 第71页 |
| 2.2.6 SERS检测 | 第71页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第71-89页 |
| 2.3.1 贵金属/半导体基底的FDTD模拟 | 第71-74页 |
| 2.3.2 Ag/Ge基底的表征 | 第74-78页 |
| 2.3.3 Ag/Ge基底的SERS性能 | 第78-89页 |
| 2.4 小结 | 第89页 |
| 参考文献 | 第89-95页 |
| 第三章 嫁接于Ge衬底上Ag-Au纳米颗粒的两步法制备及SERS性能研究 | 第95-113页 |
| 3.1 前言 | 第95-96页 |
| 3.2 实验部分 | 第96-97页 |
| 3.2.1 实验试剂 | 第96页 |
| 3.2.2 Ag-Au纳米颗粒基底的制备 | 第96页 |
| 3.2.3 测试表征 | 第96-97页 |
| 3.2.4 时域有限差分（FDTD）模拟 | 第97页 |
| 3.2.5 SERS检测 | 第97页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第97-108页 |
| 3.3.1 Ge衬底上Ag-Au纳米颗粒的表征 | 第97-100页 |
| 3.3.2 基底电场分布的FDTD模拟 | 第100-102页 |
| 3.3.3 基底的SERS性能 | 第102-108页 |
| 3.4 小结 | 第108-109页 |
| 参考文献 | 第109-113页 |
| 第四章 基于Ag-Pt纳米颗粒SERS基底的绿色制备及性能研究 | 第113-132页 |
| 4.1 前言 | 第113-115页 |
| 4.2 实验部分 | 第115-116页 |
| 4.2.1 实验试剂 | 第115页 |
| 4.2.2 Ag-Pt NPs/Ge的制备 | 第115页 |
| 4.2.3 测试表征 | 第115页 |
| 4.2.4 拉曼检测 | 第115-116页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第116-127页 |
| 4.3.1 Ge衬底上Ag-Pt NPs的表征 | 第116-121页 |
| 4.3.2 基底的SERS性能 | 第121-127页 |
| 4.4 小结 | 第127页 |
| 参考文献 | 第127-132页 |
| 第五章 Gamma射线辐照对石墨烯量子点发光性质的可控调节研究 | 第132-167页 |
| 5.1 前言 | 第132-134页 |
| 5.2 实验部分 | 第134-135页 |
| 5.2.1 实验试剂 | 第134页 |
| 5.2.2 GQD-OH、GQD-NH2、GDQ-N_2H_3、m-GQDs和CQDs的制备 | 第134页 |
| 5.2.3 GQDs和CQDs的Gamma射线辐照处理 | 第134页 |
| 5.2.4 荧光量子产率的计算 | 第134-135页 |
| 5.2.5 测试表征 | 第135页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第135-158页 |
| 5.3.1 GQD-OH的表征 | 第135-137页 |
| 5.3.2 溶解氧对GQD-OH辐照的影响 | 第137-142页 |
| 5.3.3 不同条件下GQD-OH的Gamma射线辐照 | 第142-151页 |
| 5.3.4 GQD-NH2、GQD-N_2H_3、m-GQDs和CQDs的Gamma射线辐照 | 第151-157页 |
| 5.3.5 辐照处理的 GQD-OH 的生物相容性及生物成像 | 第157-158页 |
| 5.4 小结 | 第158-159页 |
| 参考文献 | 第159-167页 |
| 第六章 结论与展望 | 第167-170页 |
| 6.1 结论 | 第167-169页 |
| 6.2 展望 | 第169-170页 |
| 攻读学位期间本人出版或公开发表的论著、论文 | 第170-172页 |
| 发表学术论文 | 第170-171页 |
| 参加的学术会议 | 第171-172页 |
| 致谢 | 第172-174页 |
