主要创新点 | 第6-11页 |
摘要 | 第11-13页 |
ABSTRACT | 第13-14页 |
第一章 绪论 | 第15-48页 |
1.1 引言 | 第15页 |
1.2 硫属化合物简介 | 第15-18页 |
1.2.1 TMDs的结构特征 | 第16-17页 |
1.2.2 单层TMDs的电子结构 | 第17-18页 |
1.3 低维纳米硫化物的制备简介 | 第18-21页 |
1.3.1 溶液剥离法 | 第18-20页 |
1.3.1.1 直接超声法 | 第19页 |
1.3.1.2 化学插层法 | 第19-20页 |
1.3.2 CVD法 | 第20页 |
1.3.3 综合法 | 第20-21页 |
1.4 低维硫化物的催化应用 | 第21-25页 |
1.4.1 HDS反应 | 第21-22页 |
1.4.2 生物油HDO反应 | 第22-23页 |
1.4.3 电化学析氢(HER) | 第23-24页 |
1.4.4 光解水制氢 | 第24-25页 |
1.5 模型催化剂的表面化学 | 第25-29页 |
1.5.1 催化剂的构效关系 | 第25-26页 |
1.5.2 催化剂的精细结构分析 | 第26-29页 |
1.5.2.1 原子分辨电子显微镜技术 | 第26-27页 |
1.5.2.2 外延X射线吸收精细结构(EXAFS) | 第27-29页 |
1.6 高效低维硫化物催化剂的构筑方法 | 第29-37页 |
1.6.1 几何结构和电子结构的调控 | 第29-30页 |
1.6.2 晶格形变 | 第30-31页 |
1.6.3 多元组分助剂 | 第31-33页 |
1.6.4 表面修饰 | 第33-36页 |
1.6.5 杂原子取代掺杂 | 第36-37页 |
1.7 选题依据和研究思路 | 第37-39页 |
参考文献 | 第39-48页 |
第二章 少层MoS_2纳米薄片的制备、表面修饰及生物质脱氧应用研究 | 第48-70页 |
2.1 引言 | 第48-49页 |
2.2 实验部分 | 第49-51页 |
2.2.1 化学试剂 | 第49页 |
2.2.2 剥离过程 | 第49页 |
2.2.3 Co-F-MoS_2催化剂的制备 | 第49-50页 |
2.2.4 CoS-F-MoS_2催化剂的制备 | 第50页 |
2.2.5 HDO反应过程 | 第50页 |
2.2.6 表征手段 | 第50-51页 |
2.3 剥离材料的表征结果 | 第51-57页 |
2.3.1 紫外可见吸收光谱 | 第51-52页 |
2.3.2 电镜表征 | 第52-54页 |
2.3.3 AFM表征 | 第54页 |
2.3.4 Raman光谱 | 第54-55页 |
2.3.5 XPS表征 | 第55-56页 |
2.3.6 EPR表征 | 第56-57页 |
2.4 剥离效果的评价及讨论 | 第57-60页 |
2.4.1 剥离影响因素 | 第57-59页 |
2.4.2 批量化生产 | 第59页 |
2.4.3 剥离机理探究 | 第59-60页 |
2.5 CoMo复合催化剂的构筑 | 第60-63页 |
2.5.1 Co-F-MoS_2的表征 | 第61-62页 |
2.5.2 CoS-F-MoS_2的表征 | 第62-63页 |
2.6 催化结果与讨论 | 第63-66页 |
2.6.1 剥离对MoS_2性能的影响 | 第63-65页 |
2.6.2 不同负载方式的筛选 | 第65页 |
2.6.3 不同金属助剂的筛选 | 第65-66页 |
2.7 本章小结 | 第66-67页 |
参考文献 | 第67-70页 |
第三章 单层MoS_2薄片Basal面的活化及生物质脱氧应用 | 第70-90页 |
3.1 引言 | 第70-71页 |
3.2 实验过程 | 第71-74页 |
3.2.1 化学试剂 | 第71页 |
3.2.2 S-MoS_2剥离制备过程 | 第71-72页 |
3.2.3 固体S-MoS_2样品的收集 | 第72页 |
3.2.4 HDO反应过程 | 第72页 |
3.2.5 表征手段 | 第72-74页 |
3.3 材料结构表征 | 第74-80页 |
3.3.1 紫外可见(UV-vis)吸收光谱 | 第74-75页 |
3.3.2 H~1 ssNMR表征 | 第75-76页 |
3.3.3 XRD表征 | 第76页 |
3.3.4 拉曼光谱 | 第76-77页 |
3.3.5 电镜表征 | 第77-78页 |
3.3.6 X射线光电子能谱(XPS) | 第78-79页 |
3.3.7 外延X射线吸收精细结构(EXAFS) | 第79-80页 |
3.4 表面缺陷分析 | 第80-82页 |
3.4.1 S/Mo化学计量比 | 第80-81页 |
3.4.2 AC-TEM表征S缺陷 | 第81-82页 |
3.4.3 电子自旋共振光谱(EPR) | 第82页 |
3.5 催化结果与讨论 | 第82-85页 |
3.6 本章小结 | 第85-87页 |
参考文献 | 第87-90页 |
第四章 单原子Co修饰单层MoS_2催化剂的制备及其脱氧催化活性研究 | 第90-118页 |
4.1 引言 | 第90-91页 |
4.2 实验部分 | 第91-93页 |
4.2.1 化学试剂 | 第91页 |
4.2.2 材料制备过程 | 第91-92页 |
4.2.3 材料表征手段及催化性能测试 | 第92页 |
4.2.4 DFT理论计算 | 第92-93页 |
4.3 材料表征分析 | 第93-100页 |
4.3.1 XRD分析 | 第93页 |
4.3.2 普通TEM分析 | 第93-94页 |
4.3.3 XPS分析 | 第94-95页 |
4.3.4 高角环形暗场扫描透射电子显微镜(HAADF-STEM) | 第95-96页 |
4.3.5 AC-TEM分析 | 第96-98页 |
4.3.6 EXAFS表征 | 第98-100页 |
4.4 催化结果与讨论 | 第100-107页 |
4.4.1 不同催化剂性能比较 | 第101-103页 |
4.4.2 催化剂的稳定性测试 | 第103-106页 |
4.4.3 构效关系分析 | 第106-107页 |
4.5 DFT理论计算 | 第107-114页 |
4.5.1 Co的稳定键合构象 | 第107-109页 |
4.5.2 Co对S缺陷形成的促进作用 | 第109-112页 |
4.5.3 S缺陷位上O原子的化学吸脱附模拟 | 第112-113页 |
4.5.4 HDO反应热力学模拟 | 第113-114页 |
4.7 本章小结 | 第114-115页 |
参考文献 | 第115-118页 |
第五章 硫化镉晶面控制、修饰及光解水制氢性能研究 | 第118-131页 |
5.1 引言 | 第118-119页 |
5.2 实验方法 | 第119-120页 |
5.2.1 化学试剂 | 第119页 |
5.2.2 不同形貌CdS的合成方法 | 第119页 |
5.2.3 光催化水分解制氢反应过程 | 第119-120页 |
5.2.4 材料表征手段 | 第120页 |
5.3 催化剂表征结果 | 第120-124页 |
5.3.1 XRD表征 | 第120-121页 |
5.3.2 TEM表征 | 第121-122页 |
5.3.3 紫外-可见漫反射光谱(DRS) | 第122-123页 |
5.3.4 光致发光(PL)光谱 | 第123-124页 |
5.3.5 BET测试 | 第124页 |
5.4 光催化制氢结果与讨论 | 第124-127页 |
5.4.1 不同形貌CdS催化性能比较 | 第124-126页 |
5.4.2 PdS助剂对光催化性能的影响 | 第126-127页 |
5.5 本章小结 | 第127-129页 |
参考文献 | 第129-131页 |
附录一 烷基伯胺-多元醇自组装微结构与粘弹性关系的构建 | 第131-142页 |
参考文献 | 第139-142页 |
附录二 烷基胺-多元醇自组装体系中金纳米粒子的合成 | 第142-152页 |
参考文献 | 第150-152页 |
攻博期间发表的科研成果目录 | 第152-153页 |
致谢 | 第153页 |