基于多材料微纳加工技术的三维复杂结构研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 微纳加工技术研究现状 | 第10-12页 |
| 1.2.1 国外研究现状 | 第10-11页 |
| 1.2.2 国内研究现状 | 第11-12页 |
| 1.3 主要微纳加工技术 | 第12-18页 |
| 1.3.1 硅刻蚀工艺 | 第12-14页 |
| 1.3.2 准分子激光加工工艺 | 第14-16页 |
| 1.3.3 LIGA工艺 | 第16-18页 |
| 1.4 研究内容 | 第18-20页 |
| 第2章 利用X光光刻工艺制备微针阵列 | 第20-29页 |
| 2.1 引言 | 第20-21页 |
| 2.2 X光光刻工艺 | 第21-22页 |
| 2.2.1 固定X光光刻工艺 | 第21页 |
| 2.2.2 移动X光光刻工艺 | 第21-22页 |
| 2.3 利用X光光刻工艺制备微针阵列 | 第22-27页 |
| 2.3.1 X光光刻设备 | 第22-25页 |
| 2.3.2 X光掩膜板的制备 | 第25页 |
| 2.3.3 PMMA微针阵列的制备 | 第25-27页 |
| 2.3.4 PMMA微针 | 第27页 |
| 2.4 本章小结 | 第27-29页 |
| 第3章 显影条件对PMMA加工影响因素的研究 | 第29-36页 |
| 3.1 引言 | 第29-30页 |
| 3.2 基于移动X光曝光工艺的PMMA样品制备 | 第30-31页 |
| 3.3 显影条件对PMMA加工深度的影响 | 第31-33页 |
| 3.3.1 曝光剂量对加工深度的影响 | 第31-32页 |
| 3.3.2 显影温度对加工深度的影响 | 第32页 |
| 3.3.3 显影时间对加工深度的影响 | 第32-33页 |
| 3.4 显影条件对PMMA加工表面粗糙度的影响 | 第33-34页 |
| 3.5 显影条件对PMMA加工深度损失的影响 | 第34-35页 |
| 3.6 本章小结 | 第35-36页 |
| 第4章 微针阵列制备及性能测试 | 第36-43页 |
| 4.1 引言 | 第36页 |
| 4.2 利用移动X光光刻工艺制备PMMA微针阵列 | 第36-38页 |
| 4.3 利用对准曝光工艺制备空心微针阵列 | 第38-39页 |
| 4.4 PDMS转模 | 第39-41页 |
| 4.5 性能测试 | 第41-42页 |
| 4.6 本章小结 | 第42-43页 |
| 第5章 利用微纳加工技术制备膜片式压电微泵 | 第43-56页 |
| 5.1 引言 | 第43-44页 |
| 5.2 工作原理 | 第44-45页 |
| 5.3 结构设计与仿真分析 | 第45-48页 |
| 5.3.1 结构设计 | 第45-46页 |
| 5.3.2 微致动器的仿真分析 | 第46-48页 |
| 5.4 制备工艺 | 第48-51页 |
| 5.4.1 微致动器的制备 | 第48-50页 |
| 5.4.2 微单向阀的制备 | 第50-51页 |
| 5.5 实验测试 | 第51-55页 |
| 5.5.1 微致动器测试 | 第51-53页 |
| 5.5.2 微单向阀测试 | 第53-54页 |
| 5.5.3 微泵驱动测试 | 第54-55页 |
| 5.6 本章小结 | 第55-56页 |
| 第6章 总结与展望 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文和专利情况 | 第62页 |
