多孔玻璃的制备、镀膜及性能研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 引言 | 第9-25页 |
| 1.1 薄膜的主要制备技术 | 第9-17页 |
| 1.1.1 溶胶-凝胶法 | 第9-10页 |
| 1.1.2 脉冲激光沉积 | 第10-11页 |
| 1.1.3 热解喷涂法 | 第11页 |
| 1.1.4 化学气相沉积 | 第11-13页 |
| 1.1.5 溅射法 | 第13-17页 |
| 1.2 防紫外镀膜玻璃 | 第17-19页 |
| 1.2.1 防紫外薄膜的研究现状与应用 | 第17-18页 |
| 1.2.2 紫外吸收原理 | 第18-19页 |
| 1.3 膜基结合力 | 第19-23页 |
| 1.3.1 薄膜与基板之间的结合力 | 第19-20页 |
| 1.3.2 薄膜与基板之间的结合状态 | 第20-21页 |
| 1.3.3 增大膜基结合力的方法 | 第21-23页 |
| 1.4 论文的主要研究内容 | 第23-25页 |
| 2 实验部分 | 第25-29页 |
| 2.1 主要实验试剂 | 第25-26页 |
| 2.2 实验仪器 | 第26页 |
| 2.3 薄膜的性能评价 | 第26-29页 |
| 2.3.1 扫描电子显微镜SEM | 第26-27页 |
| 2.3.2 原子力显微镜AFM | 第27页 |
| 2.3.3 紫外-可见分光光度计 | 第27页 |
| 2.3.4 台阶仪 | 第27页 |
| 2.3.5 四探针测试仪 | 第27页 |
| 2.3.6 X射线光电子能谱XPS | 第27页 |
| 2.3.7 X射线衍射XRD | 第27-28页 |
| 2.3.8 纳米力学系统 | 第28-29页 |
| 3 高可见光透过、高紫外截止镀膜玻璃的制备 | 第29-37页 |
| 3.1 多孔玻璃的制备 | 第29页 |
| 3.2 磁控溅射镀膜 | 第29页 |
| 3.3 多孔增透玻璃评价 | 第29-31页 |
| 3.4 磁控溅射镀CeO_2/TiO_2膜 | 第31-37页 |
| 3.4.1 不同功率对薄膜性能的影响 | 第31-34页 |
| 3.4.2 膜厚对薄膜的性能的影响 | 第34-35页 |
| 3.4.3 多孔增透玻璃对薄膜性能的影响 | 第35-37页 |
| 4 提高膜基结合力的研究 | 第37-56页 |
| 4.1 微米级孔坑玻璃的制备 | 第37-38页 |
| 4.2 孔坑玻璃评价 | 第38-39页 |
| 4.3 磁控溅射镀膜 | 第39页 |
| 4.4 结果与讨论 | 第39-56页 |
| 4.4.1 AZO薄膜的制备与表征 | 第39-43页 |
| 4.4.2 ITO薄膜的制备与表征 | 第43-46页 |
| 4.4.3 FTO薄膜的制备与表征 | 第46-49页 |
| 4.4.4 FTO/AZO薄膜的制备 | 第49-51页 |
| 4.4.5 W/Al薄膜的制备与表征 | 第51-56页 |
| 5 结论 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64页 |
