| 摘要 | 第8-9页 |
| ABSTRACT | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第11-20页 |
| 1.1 自旋电子学简介 | 第11-12页 |
| 1.2 磁性半导体 | 第12-16页 |
| 1.2.1 磁性半导体简介 | 第12-14页 |
| 1.2.2 ZnO基稀磁半导体的研究现状与前景 | 第14-16页 |
| 1.3 电场调控反常霍尔效应的研究意义与现状 | 第16-18页 |
| 1.4 本文的研究动机和研究内容 | 第18-20页 |
| 第二章 样品的制备与测试分析方法 | 第20-31页 |
| 2.1 引言 | 第20页 |
| 2.2 分子束外延技术 | 第20-23页 |
| 2.3 样品的测试分析方法 | 第23-31页 |
| 2.3.1 反射高能电子衍射(RHEED) | 第23-24页 |
| 2.3.2 X射线衍射谱(XRD) | 第24-26页 |
| 2.3.3 原子力显微镜(AFM) | 第26-28页 |
| 2.3.4 交变梯度磁强计(AGM) | 第28-29页 |
| 2.3.5 超导量子干涉仪(SQUID) | 第29-31页 |
| 第三章 Al_2O_3衬底上(Zn,Co)O薄膜的生长、磁性 | 第31-36页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 (Zn,Co)O薄膜的制备方法 | 第31-32页 |
| 3.3 (Zn,Co)O薄膜的性质分析 | 第32-36页 |
| 3.3.1 样品的结构 | 第32-34页 |
| 3.3.2 样品的磁性 | 第34-36页 |
| 第四章 样品的微加工 | 第36-46页 |
| 4.1 微加工方法简介 | 第36-40页 |
| 4.1.1 光刻技术 | 第36-40页 |
| 4.1.2 氩离子刻蚀 | 第40页 |
| 4.2 样品结构微加工过程 | 第40-46页 |
| 4.2.1 样品表面预处理 | 第40-42页 |
| 4.2.2 样品结构微加工 | 第42-46页 |
| 第五章 样品的电场调控 | 第46-59页 |
| 5.1 测量简介 | 第46-48页 |
| 5.2 电阻调控 | 第48-50页 |
| 5.3 样品载流子浓度调控 | 第50-53页 |
| 5.4 反常霍尔效应调控 | 第53-56页 |
| 5.5 实验原理与讨论 | 第56-58页 |
| 5.6 本章小结 | 第58-59页 |
| 第六章 总结和展望 | 第59-61页 |
| 6.1 论文的主要内容和成果 | 第59页 |
| 6.2 本论文的特色和创新 | 第59-60页 |
| 6.3 展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参加的学术会议 | 第66-67页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第67页 |