中文摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-9页 |
第一章 绪论 | 第9-24页 |
·物质的磁性及分类 | 第9-12页 |
·顺磁性 | 第10页 |
·铁磁性 | 第10-11页 |
·反铁磁性 | 第11-12页 |
·亚铁磁性 | 第12页 |
·抗磁性 | 第12页 |
·磁光效应 | 第12-14页 |
·法拉第效应 | 第13页 |
·克尔效应 | 第13-14页 |
·磁光材料 | 第14-16页 |
·磁光晶体 | 第14-15页 |
·磁光玻璃 | 第15页 |
·磁光薄膜 | 第15-16页 |
·稀磁半导体 | 第16页 |
·磁性光子晶体 | 第16页 |
·磁光器件 | 第16-20页 |
·磁光隔离器 | 第17页 |
·磁光调制器 | 第17-18页 |
·光纤电流传感器 | 第18页 |
·磁光存储器 | 第18-19页 |
·磁光开关 | 第19-20页 |
·选题依据、项目来源和研究内容 | 第20-24页 |
·选题依据 | 第20-22页 |
·项目来源 | 第22-23页 |
·研究内容 | 第23-24页 |
第二章 多晶原料的合成及性能表征 | 第24-33页 |
·主要实验仪器与试剂 | 第24-25页 |
·主要仪器 | 第24页 |
·主要实验试剂 | 第24-25页 |
·高温固相法合成多晶粉体 | 第25-27页 |
·高温固相合成法 | 第25页 |
·原料烧结工艺的确定 | 第25-27页 |
·多晶原料的合成步骤 | 第27页 |
·多晶粉体的表征 | 第27-32页 |
·多晶粉体物相分析 | 第27-29页 |
·红外光谱分析(IR) | 第29-31页 |
·紫外·可见漫反射光谱分析(DRS) | 第31-32页 |
·本章小结 | 第32-33页 |
第三章 Sr_2Tb_xGd_(8-x)(SiO_4)_6O_2晶体的生长 | 第33-46页 |
·提拉法生长单晶 | 第33-34页 |
·主要实验仪器 | 第33页 |
·提拉法简介 | 第33-34页 |
·影响晶体生长的因素 | 第34-38页 |
·籽晶 | 第34-35页 |
·加热方式 | 第35页 |
·坩埚 | 第35-36页 |
·温场 | 第36页 |
·气氛 | 第36页 |
·生长速率 | 第36-37页 |
·晶体转速 | 第37-38页 |
·退火 | 第38页 |
·晶体生长 | 第38-44页 |
·生长装置 | 第38-39页 |
·生长步骤 | 第39-40页 |
·生长过程讨论 | 第40-42页 |
·生长工艺参数 | 第42-43页 |
·晶体照片 | 第43-44页 |
·本章小结 | 第44-46页 |
第四章 Sr_2Tb_xGd_(8-x)(SiO_4)_6O_2晶体结构及缺陷研究 | 第46-59页 |
·主要实验仪器 | 第46页 |
·晶体的晶胞参数 | 第46-49页 |
·有效分凝系数 | 第49-50页 |
·晶体元素含量能谱分析 | 第50-53页 |
·晶体缺陷分析 | 第53-57页 |
·包裹物形成原因分析 | 第54-57页 |
·减少包裹物的方法 | 第57页 |
·本章小结 | 第57-59页 |
第五章 Sr_2Tb_xGd_(8-x)(SiO_4)_6O_2晶体部分物理性能 | 第59-66页 |
·晶体硬度测试 | 第59-60页 |
·晶体热导率测试 | 第60-63页 |
·晶体热膨胀系数测试 | 第63-65页 |
·本章小结 | 第65-66页 |
第六章 Sr_2Tb_xGd_(8-x)(SiO_4)_6O_2晶体磁光性能 | 第66-78页 |
·晶片的基本情况 | 第66页 |
·晶体光谱性能的测试 | 第66-69页 |
·晶体的透射光谱 | 第66-67页 |
·晶体的吸收光谱 | 第67-69页 |
·晶体的磁光性能 | 第69-76页 |
·低温磁性分析 | 第69-71页 |
·法拉第旋转角 | 第71-75页 |
·费尔德常数 | 第75-76页 |
·本章小结 | 第76-78页 |
结论 | 第78-80页 |
参考文献 | 第80-90页 |
第一章 | 第80-85页 |
第二章 | 第85页 |
第三章 | 第85-87页 |
第四章 | 第87页 |
第五章 | 第87-88页 |
第六章 | 第88-90页 |
致谢 | 第90-91页 |
个人简历 | 第91页 |