| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-14页 |
| ·磺酰脲类除草剂 | 第8-9页 |
| ·分子印迹技术概论 | 第9-11页 |
| ·分子印迹固相萃取柱 | 第11-12页 |
| ·分子印迹固相萃取技术在磺酰脲类除草剂残留检测中的应用 | 第12页 |
| ·本研究的意义和研究的主要内容 | 第12-14页 |
| 第二章 吡嘧磺隆分子印迹聚合物的合成条件优化 | 第14-23页 |
| ·前言 | 第14页 |
| ·实验材料与方法 | 第14-16页 |
| ·实验仪器与试剂 | 第14页 |
| ·实验仪器 | 第14页 |
| ·实验试剂、材料 | 第14页 |
| ·热引发吡嘧磺隆分子印迹聚合物的制备 | 第14-15页 |
| ·分子印迹聚合物的洗脱 | 第15页 |
| ·吡嘧磺隆分子印迹聚合物吸附性能的测定 | 第15页 |
| ·印迹聚合物和空白聚合物的红外光谱实验 | 第15-16页 |
| ·印迹聚合物和空白聚合物的电子显微镜实验 | 第16页 |
| ·印迹聚合物和空白聚合物的的颗粒度实验 | 第16页 |
| ·结果与分析 | 第16-21页 |
| ·吡嘧磺隆分子印迹聚合物制备条件的优化 | 第16-18页 |
| ·反应溶剂对吸附量和颗粒度的影响 | 第16-17页 |
| ·洗脱模板溶剂的优化 | 第17-18页 |
| ·聚合物电镜、红外扫描结果分析 | 第18-21页 |
| ·结论 | 第21-23页 |
| 第三章 吡嘧磺隆分子印迹聚合物的吸附性能研究 | 第23-29页 |
| ·前言 | 第23页 |
| ·实验材料与方法 | 第23-25页 |
| ·实验材料 | 第23页 |
| ·实验仪器 | 第23页 |
| ·实验试剂 | 第23页 |
| ·实验方法 | 第23-25页 |
| ·分子印迹聚合物的制备 | 第23-24页 |
| ·标准溶液的配制 | 第24页 |
| ·标准曲线的绘制 | 第24页 |
| ·聚合物吸附性实验 | 第24-25页 |
| ·不同吸附时间对吸附量影响的实验 | 第24页 |
| ·不同吸附溶剂的吸附量影响的实验 | 第24页 |
| ·不同底物浓度对吸附量影响的实验 | 第24页 |
| ·五种结构类似物底物吸附量比较实验 | 第24-25页 |
| ·高效液相色谱分析 | 第25页 |
| ·结果与分析 | 第25-28页 |
| ·标准曲线及相关系数 | 第25页 |
| ·分子印迹聚合物的吸附性能测定 | 第25-28页 |
| ·不同时间的吸附量比较 | 第25-26页 |
| ·不同吸附溶剂的优化 | 第26-27页 |
| ·不同吡嘧磺隆浓度对吸附量的影响 | 第27页 |
| ·五种结构类似物吸附量比较 | 第27-28页 |
| ·结论 | 第28-29页 |
| 第四章 分子印迹固相萃取-高效液相色谱法检测五种磺酰脲类除草剂 | 第29-36页 |
| ·前言 | 第29页 |
| ·试验材料与方法 | 第29-32页 |
| ·实验材料 | 第29-30页 |
| ·实验器材 | 第29页 |
| ·实验试剂 | 第29-30页 |
| ·试验方法 | 第30-31页 |
| ·五种磺酰脲类除草剂标准液的配制 | 第30页 |
| ·分子印迹固相萃取柱的制作、活化及条件的优化 | 第30-31页 |
| ·分子印迹固相萃取柱的制作 | 第30页 |
| ·分子印迹固相萃取柱的活化 | 第30页 |
| ·上样溶剂的选择 | 第30页 |
| ·固相萃取柱的淋洗剂的选择 | 第30-31页 |
| ·分子印迹固相萃取柱的洗脱剂的选择 | 第31页 |
| ·高效液相色谱条件 | 第31页 |
| ·分子印迹固相萃取柱对加标大米预处理实验 | 第31-32页 |
| ·大米样品溶液的制备 | 第31页 |
| ·分子印迹固相萃取柱处理大米样品溶液 | 第31-32页 |
| ·结果与分析 | 第32-35页 |
| ·标准曲线与相关系数 | 第32页 |
| ·分子印迹固相萃取条件的优化 | 第32-34页 |
| ·活化溶剂与上样溶剂的选择 | 第32-33页 |
| ·淋洗溶剂的选择 | 第33页 |
| ·洗脱溶剂的选择 | 第33-34页 |
| ·吡嘧磺隆分子印迹柱在预处理大米中磺酰脲类除草剂的应用 | 第34-35页 |
| ·MISPE预处理大米样品 | 第34-35页 |
| ·结论 | 第35-36页 |
| 第五章 结论与展望 | 第36-38页 |
| ·本实验获得的成果 | 第36-37页 |
| ·本实验存在的问题及展望 | 第37-38页 |
| 参考文献 | 第38-43页 |
| 在校期间的学习成果 | 第43-44页 |
| 致谢 | 第44页 |
